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北京亞科晨旭科技有限公司
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當前位置：北京亞科晨旭科技有限公司>>微納加工平臺-圖形發(fā)生>>電子束曝光>> RAITH-EBPG5150電子束直寫系統(tǒng) EBPG5150

電子束直寫系統(tǒng) EBPG5150

參  考  價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準

產(chǎn)品型號RAITH-EBPG5150

品       牌其他品牌

廠商性質(zhì)生產(chǎn)商

所  在  地北京市

更新時間：2024-09-25 15:40:40瀏覽次數(shù)：1893次

聯(lián)系我時，請告知來自 化工儀器網(wǎng)
產(chǎn)地類別 進口 價格區(qū)間 150萬-200萬
應用領域 電子
EBPG5150使用了155mm大小的樣品臺，采用跟電子束曝光機EBPG5200一樣的通用光刻平臺設計，

專業(yè)電子束曝光系統(tǒng)

電子束直寫系統(tǒng)  EBPG5150

自動化和高速度的電子束直寫技術

電子束直寫系統(tǒng)EBPG5150使用了155mm大小的樣品臺，采用跟電子束曝光機EBPG5200一樣的通用光刻平臺設計，對電子束直寫應用進行了優(yōu)化。它可以載入不同大小的樣品,包括多片散片以及完整的硅片。 

 

 

Improved Specifications

  • Ultra-fast, low-noise pattern generator 125 MHz
  • Extreme beam current up to 350 nA
  • Excellent direct write performance with overlay accuracy of ≤ 5nm

 

  • 高束流密度，熱場發(fā)射電子槍可以在20、50和100kV之間切換
  • 155mm的平臺
  • 小曝光特征尺寸小于8nm
  • 高速度曝光，可采用50或100MHz的圖形發(fā)生器
  • 在所有KVs加速電壓下，可連續(xù)改變的寫場大小，大可以到1mm
  • GUI人機交互界面友好，簡潔易用，適用于多用戶環(huán)境
  • 多項靈活可選擇的配置，可以適用于不同應用的需求

可選的系統(tǒng)增強升級

EBPG5150可以選擇不同的升級選項，以滿足用戶不同的技術和預算需求。讓*的高校等研究類用戶也可以使用這款非常先進、高自動化的電子束光刻系統(tǒng)。

 

電子束直寫系統(tǒng)EBPG5150 應用

  • 電子束曝光用于制作GaAs T型器件

 

  • 微盤諧振器

 

  • 開口環(huán)諧振器

電子束直寫系統(tǒng)EBPG5150 產(chǎn)品詳情

主要應用：

  • 100KV高加速電壓可用于曝光高深寬比納米結(jié)構(gòu)
  • 高速電子束直寫
  • 批量生產(chǎn)，如化合物半導體器件
  • 防偽標識

電子光學柱技術：

  • EBPG
  • 電子束
  • 100 kV

樣品臺：

  • 覆蓋完整6英寸硅片大小
  • 標配2工位自動化上料
    (10工位可選)

 

 

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