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邁可諾技術有限公司
主營產品： 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機 |
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更新時間：2024-05-17 14:35:09瀏覽次數：786
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顯影機DEVELOPER
晶圓顯影機的用途包括：
光刻工藝：在半導體制造中，光刻工藝是一種關鍵的工藝步驟，用于在晶圓表面形成微細的圖案，以定義電路和器件的結構。晶圓顯影機用于對光刻膠進行顯影處理，形成所需的圖案。
芯片制造：晶圓顯影機也用于芯片制造過程中的顯影步驟，幫助形成芯片上的電路圖案和結構。
微納加工：除了半導體制造，晶圓顯影機還可以應用于微納加工領域，用于制造微米級甚至納米級的器件和結構。
顯影機在半導體制造和微納加工領域起著至關重要的作用，幫助實現微電子元件的精密制造和微米級結構的加工。
1. UNIXX D20 高級版
（直徑200mm）帶有可移動飛濺環的獨立系統，用于手動裝載/卸載單個基材。
2.UNIXX D30標準
（?300毫米）單機系統為用戶提供
在科學方面，以及具有高效、安全和清潔系統的研究。
