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產地類別 | 進口 | 價格區間 | 面議 |
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應用領域 | 綜合 |
特點: 采用具有高亮度和色度精度的光譜方法(衍射光柵), 0.005cd / m 2的超低亮度到400000cd / m 2的高亮度都可測量, 對應CIE推薦的寬波長范圍(355 nm至835 nm) 光學系統降低了...
日本Otsuka大塚FHS-1000高靈敏度光譜儀-成都藤田科技提供
產品信息
特長
采用具有高亮度和色度精度的光譜方法(衍射光柵),
0.005cd / m 2的超低亮度到400,000cd / m2的高亮度都可測量,
對應CIE推薦的寬波長范圍(355nm至835 nm)
光學系統降低了偏振誤差(<1%),
并且像LCD一樣具有偏振特性的樣品也可以進行高精度測量
可以執行最短1秒的高速測量,包括通信時間。
(在連續測量的情況下,可以更快的進行測量,最短約20毫秒/次)
可在不改變測量角度下測量的廣泛的亮度范圍。
(測量角度2°時,0.005cd / m2~4,000cd / m2)
可以對頻率照明光源執行高精度的穩定測量。
(輸入照明頻率自動將曝光時間設置為照明周期的整數倍)
搭載了對應響應測量的產品?!?br/>也可能對應人眼可視顏色外觀模型“CIECAM 02標準“的輸出?!?br/>考慮到眼睛薄度(浦肯野現象現象),也可對應“CIE 200:2011標準“的輸出。※
測定項目
-輻射率(W / sr / m 2)
- 亮度(cd / m 2)
- 色度坐標xy [符合CIE 1931]
- 色度坐標U'V'[CIE 1976兼容]
- 色度坐標U'V'[符合CIE 1976]
- 相關色溫 - 色度(C)* 3
- CIE顏色系統2°/ 10°
- 三刺激值XYZ - 等效亮度值* 4
- 偏差
- 光譜數據的算術運算
- 光譜數據的功能處理
- 色域(NTSC比率)* 1
- 響應速度* 2
- 明度(J)* 3
- 亮度(Q)* 3
- 飽和度(s)* 3
- 色度(C)* 3
- 色彩(M)* 3
* 1選項
* 2使用HS-1000 RT
* 3符合CIECAM 02標準時
* 4 CIE 200:符合2011標準時
用途:
LCD、PDP、有機EL,大屏幕LED等的視覺光譜數據•亮度•色度•相關色溫測量
照明光源的光譜數據,例如燈•亮度•色度•相關色溫測量
作為各種亮度/色度測量儀器的參考設備
對非接觸式物體的顏色測量
規格式樣
HS-1000 | |
---|---|
測色方式 | 分光方式 |
波長范圍 | 355 nm ~ 835 nm / 330 nm ~ 1100 nm |
量測角 | 0.1°、0.2°、1°、2° |
測量距離※ | 24 0mm ~ ∞ |
測量面積直徑 | 約10.0m m以下 |
測量面積直徑 | 約5.0mm 以下 |
測量面積直徑 | 約1.0mm 以下 |
測量面積直徑 | 約0.5mm 以下 |
輝度精度 | ±2% |
色度精度 | ±0.002 以下 |
尺寸 | 187(W) x 249(H) x 400(D) mm 以下 |
重量 | 約7.5kg 以下 |
※以接物鏡頭之前端為起始
系統架構圖
核心特點:
超大基板全覆蓋:專為下一代尺寸玻璃基板設計(支持超長/超寬規格),可高效測量LCD、TFT、有機EL等大型面板,兼容PI、ITO、SiN、介電層等復雜膜層結構。
納米級精度與秒級速度:采用分光干涉+AI算法技術,單點測量時間<1秒,膜厚精度±0.1nm,光學常數(n/k)解析<0.5%,滿足量產級質量控制需求。
全場景適配性:從研發實驗室到自動化產線,支持在線(inline)集成,可定制XYZ多軸平臺,實現基板全域厚度分布映射與缺陷快速篩查。
高速量產優化:每小時可檢測超3000點,支持多探頭并行測量,大幅提升玻璃基板(如G8/G10)產線效率,降低設備綜合成本(CoO)。
超薄與超厚膜通吃:量程覆蓋1nm至200μm,適用于OC(光學膠)、Resist(光刻膠)等軟膜與硬質涂層的精準厚度控制。
低維護:非接觸式測量設計,無探針損耗,長期使用穩定性達99.8%,搭配遠程診斷功能,減少停機風險。
日本Otsuka大塚FHS-1000高靈敏度光譜儀-成都藤田科技提供