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當前位置:北京瑞科中儀科技有限公司>>沉積系統(tǒng)>> 電漿原子層沉積設(shè)備
參 考 價 | 面議 |
產(chǎn)品型號
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所 在 地北京市
更新時間:2024-10-10 09:30:24瀏覽次數(shù):162次
聯(lián)系我時,請告知來自 化工儀器網(wǎng)工業(yè)半導(dǎo)體微納加工二維材料實驗室設(shè)備
價格區(qū)間 | 50萬-100萬 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保,生物產(chǎn)業(yè),制藥,綜合 |
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電漿原子層沉積設(shè)備(PEALD)是一種基於常規(guī)ALD的方法,其利用電漿作為裂化前驅(qū)物材料的條件,而不是僅依靠來自加熱基板的熱能。 製程中只需靠電漿來進行裂化前驅(qū)物材料,無需高溫來傳遞必要的活化能。SYSKEY的系統(tǒng)可以精準的控制電漿與ALD的製程,薄膜的厚度和均勻度皆+/- 1%。
電漿原子層沉積設(shè)備參數(shù):
應(yīng)用領(lǐng)域 | 腔體 |
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配置和優(yōu)點 | 選件 |
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應(yīng)用領(lǐng)域 | 腔體 |
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配置和優(yōu)點 | 選件 |
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