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目錄:基恩士(中國(guó))有限公司>>顯微鏡>>激光顯微鏡>> VK-X3000系列基恩士 形狀測(cè)量激光顯微系統(tǒng)

基恩士 形狀測(cè)量激光顯微系統(tǒng)
  • 基恩士 形狀測(cè)量激光顯微系統(tǒng)
參考價(jià) 面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
參考價(jià) 面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 品牌 KEYENCE/基恩士
  • 型號(hào) VK-X3000系列
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)商
  • 所在地 上海市
屬性

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更新時(shí)間:2024-12-17 15:39:35瀏覽次數(shù):10552評(píng)價(jià)

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上市時(shí)間:
2022-3-1
創(chuàng)  新 點(diǎn):
VK-X3000創(chuàng)新點(diǎn):①掃描方式升級(jí):上一代VK-X1000系列有兩種掃描方式(聚焦變化、激光共聚焦),新一代VK-X3000系列升級(jí)為三種掃描方式(聚焦變化、激光共聚焦、白光干涉),可以根據(jù)樣品工件的材料、形狀和測(cè)量范圍選擇適合的掃描方式,進(jìn)行高精度測(cè)量。掃描方式升級(jí),最高分辨率由以前的0.5nm提升至0.01nm,微小形狀也能準(zhǔn)確獲取,支持難以掃描的透明體和鏡面體。②配件升級(jí):VK-X1000系列配備的是0.5nm線性標(biāo)尺,VK-X3000系列升級(jí)為0.1nm線性標(biāo)尺。配備高精度線性標(biāo)尺,以0.1nm的高分辨率識(shí)別物鏡的Z位置,從而實(shí)現(xiàn)更加細(xì)微的凹凸檢測(cè)。③增加CAD比較測(cè)量功能。
產(chǎn)地類別 進(jìn)口 價(jià)格區(qū)間 面議
儀器種類 超高速激光共聚焦顯微成像系統(tǒng) 應(yīng)用領(lǐng)域 能源,電子,印刷包裝,汽車,綜合,材料領(lǐng)域
應(yīng)用領(lǐng)域 能源,電子,印刷包裝,汽車,綜合,材料領(lǐng)域
基恩士 形狀測(cè)量激光顯微系統(tǒng) VK-X3000系列
搭載白光干涉功能 ,納米/微米/毫米一臺(tái)即可完成測(cè)量
超越激光顯微鏡的限制,以三重掃描方式應(yīng)對(duì)
?一臺(tái)即可測(cè)量納米/ 微米/ 毫米
?一臺(tái)即可了解希望獲取的信息
?納米級(jí)分辨率

基恩士 形狀測(cè)量激光顯微系統(tǒng) VK-X3000系列


產(chǎn)品外觀

VK1.JPG

 

產(chǎn)品特性

采用了三重掃描方式,運(yùn)用激光共聚焦、白光干涉、聚焦變化等三種不同的掃描原理,高倍率和低倍率,平面、凹凸表面的細(xì)微粗糙度,

以及鏡面體,透明體等。VK擁有應(yīng)對(duì)多種樣品的測(cè)量能力(從 1 nm 到 50 mm),納米/微米/毫米一臺(tái)完成測(cè)量。

 

1、Basic Characteristics

觀察

從光學(xué)顯微鏡到SEM領(lǐng)域一臺(tái)設(shè)備涵蓋

  • 42 至 28800 倍

  • 無(wú)需對(duì)焦

  • 適用于多種樣品

觀察.JPG


測(cè)量

非接觸瞬間掃描形狀

  • 不會(huì)損傷目標(biāo)物

  • 納米級(jí)別也可準(zhǔn)確測(cè)量

  • 透明體和坡度大的目標(biāo)物也可測(cè)量

測(cè)量.JPG

 

分析

希望了解的表面“差異”一目了然

  • 定量化微小形狀

  • 輕松比較多個(gè)樣品

  • 粗糙度分析

分析.JPG

 

2、三重掃描方式解決“難以測(cè)量”的難題

可根據(jù)樣品工件的材料、形狀和測(cè)量范圍,選擇激光共聚焦、白光干涉、聚焦變化等三種不同的掃描原理,進(jìn)行高精度測(cè)量。

三重.JPG

 

3、納米級(jí)分辨率

即使是納米級(jí)的微小形狀變化也能準(zhǔn)確測(cè)量。

此外,如鏡面體、透明體等測(cè)量難度高的材料也能實(shí)現(xiàn)高速、高精度、大范圍的測(cè)量。

高分辨率.JPG

 

4、連高度差較大的凹凸處和大范圍區(qū)域也能測(cè)量

掃描區(qū)域50 mm見(jiàn)方。

凹凸不平或手掌大小的物體也能整體掃描。

只需一臺(tái)設(shè)備,即可同時(shí)掌握整體形狀和局部形狀。

凹凸.JPG

 

5、精確測(cè)量高倍率和低倍率。平面和凹凸面。

適用于各種目標(biāo)物的測(cè)量能力

全面.JPG

 

測(cè)量案例

Si 晶片背面 │ 3000 倍

表面粗糙度測(cè)量

Si晶片表面.JPG

 

MEMS │ 2 mm × 2 mm

提供:Matthieu Denoual 博士(GREYC/CNRS, ENSI de Caen,France)與東京大學(xué)研究生院三田吉郎研究室

MEMS.JPG

 

相機(jī)卡口部端子 │ 30 mm × 12 mm

端子的形狀測(cè)量

尺寸.JPG

 

基恩士 形狀測(cè)量激光顯微系統(tǒng) VK-X3000系列

除上述應(yīng)用外,在其他行業(yè)也應(yīng)用廣泛。

如果想了解更多信息可留言或電話咨詢,我們將竭誠(chéng)為您服務(wù)。

 

 

 

 

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