| 產地類別 |
國產 |
價格區間 |
5萬-10萬 |
| 控制方式 |
觸屏控制 |
樣品倉尺寸 |
直徑150mm*高度130mmmm |
| 樣品臺尺寸 |
直徑55mmmm |
應用領域 |
化工,生物產業,能源,電氣,綜合 |
離子濺射儀的離子流的大小通過控制真空壓力實現，真空度越低，I越大，濺射速度越快，原子結晶晶粒越粗，電子轟擊樣品（陽極）產生的熱量越高；真空度越高,I越小，濺射速度越慢，原子結晶晶粒越細小，電子轟擊樣品產生的熱量小。
全自動離子濺射儀工作原理：
直流冷陰極二極管式，靶材處于常溫，加負高壓1-3kv，陽極接地。當接通高壓，陰極發射電子，電子能量增加到1-3kev，轟擊低真空中(3-10pA)的氣體，使其電離，激發出的電子在電場中被加速，繼續轟擊氣體，產生聯級電離，形成等離子體。離子以1-3kev的能量轟擊陰極靶，當其能量高于靶材原子的結合能時，靶材原子或者原子簇，脫離靶材，又經過與等離子體中的殘余氣體碰撞，因此方向各異，當落在樣品表面時，可以在粗糙的樣品表面形成厚度均一的金屬薄膜，而且與樣品的結合強度高。如果工作室中的氣體持續流動，保持恒定壓力，這時的離子流保持恒定。高壓的功率決定了最大離子流，一般有最大離子流限制，用于保護高壓電源。
全自動離子濺射儀的操作：
一般工作距離可調，距離越近，濺射速度越快，但熱損傷會增加。
離子流的大小通過控制真空壓力實現，真空度越低，I越大，濺射速度越快，原子結晶晶粒越粗，電子轟擊樣品(陽極)產生的熱量越高；真空度越高,I越小，濺射速度越慢，原子結晶晶粒越細小，電子轟擊樣品產生的熱量小。
加速電壓為固定,也有可調的，加速電壓越高，對樣品熱損傷越大。一般使用金屬靶材的正比區域。
有些熱敏樣品，需要對樣品區進行冷卻，水冷或者帕爾貼冷卻；也可以采用磁控裝置，像電磁透鏡一樣把電子偏離樣品。經過這樣的改造，當然會增加很高的成本。可以在石蠟表面濺射一層金屬，而沒有任何損傷！
真空中的雜質越多，鍍膜質量越差。一般黃金比較穩定，可以采用空氣作為等離子氣源，而其他很多靶材則需要惰性氣體為好。
氣體原子序數越高，動量越大，濺射越快，但晶粒會較粗，連續成膜的膜層較厚。
保持真空室的潔凈對高質量的鍍膜有很大好處。
不要讓機械真空泵長期保持極限真空，否則容易反油。
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