半導體顯影機是用于制造半導體器件的關鍵設備。它的工作原理是在半導體制造過程中，使用化學顯影液對芯片表面進行處理，將不需要的材料或圖形去除，從而形成所需的電路結構。
產品特點：
高級伺服電機驅動，高精度、高重復性
工業級設計，PLC控制，7寸全彩觸屏操作
HDPE內腔，不銹鋼外殼，耐溶劑PC透明蓋
可添加背部清洗和去邊膠功能，滿足工業用途
可添加防濺罩式清洗和顯影功能，滿足定制需要
適合處理超大或超重底物，最大處理12寸圓形底物
更大尺寸和重型底物以及內腔抽真空等要求均可定制
產品參數：
轉速范圍 ：20-5000rpm(空載)
加速度可調范圍：20-10000rpm/s(空載)
單步時長：3000s
時間分辨率：0.1s
可編輯100組100步程序，更多可擴展
外型尺寸：730mm(W)*750mm(D)*570mm(H)
包裝方式：木箱包裝
注：
可定制經濟型手動擺臂功能模塊。
可定制左右雙功能模塊組合，如左去邊功能模塊，右顯影功能模塊。
化工儀器網