PECVD化學氣相沉積多通道質量流量控制系統一款多路質量流量計控制系統，其質量流量計和不銹鋼混氣罐都安裝在一個移動柜里，移動柜Z大可以承重1000Lbs，所以在與本公司大多數管式爐配套使用時，可將設備置于移動柜上以節約空間。
PECVD化學氣相沉積設備質量流量控制系統一款多路質量流量計控制系統，其質量流量計和不銹鋼混氣罐都安裝在一個移動柜里，移動柜Z大可以承重1000Lbs，所以在與本公司大多數管式爐配套使用時，可將設備置于移動柜上以節約空間。
工作溫度：5~45?C
zui大壓力:3x106 Pa
精度: ±1.5% FS
線性:±(0.5-1.5)%F.S
重復精度: ±0.2%F.S.
流量范圍:
一路:1~199 SCCM
二路:1~499 SCCM
PECVD注意：其他流量范圍的可定制，需額外費用
化學氣相沉積設備CVD1200C-II-SL200D50-5Z雙溫區滑軌式CVD系統由雙溫區滑軌爐、質子流量控制系統、真空系統三部分組成。雙溫區滑軌爐可移動并可實現快速升降溫；PLC控制5路質子流量器，能夠精確控制系統的供氣；真空泵可實現對管式爐快速抽真空。CVD(化學氣象沉積系統)常用于表面材料生長、沉積，是一款實驗室常用設備技術參數
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