應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,生物產(chǎn)業(yè),農(nóng)業(yè),能源 |
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產(chǎn)品簡介
詳細介紹
RST3100電化學(xué)工作站
RST3100電化學(xué)工作站
◆電化學(xué)工作站應(yīng)用領(lǐng)域:
電化學(xué)教學(xué)、電化學(xué)分析、電化學(xué)合成、痕量元素檢測、電鍍工藝開發(fā)、電池材料研究、環(huán)境保護監(jiān)測、納米材料研制、電解、冶金、生物電化學(xué)傳感器、電化學(xué)腐蝕研究測量、超電容特性測試分析、電池化成及特性測試分析。
◆電化學(xué)方法:
線性掃描伏安法、線性掃描溶出伏安法、線性掃描循環(huán)伏安法、階梯伏安法、階梯溶出伏安法、階梯循環(huán)伏安法、方波伏安法、方波溶出伏安法、方波循環(huán)伏安法、差示脈沖伏安法、差示脈沖溶出伏安法、常規(guī)脈沖伏安法、差示常規(guī)脈沖伏安法、單電位階躍計時電流法、單電位階躍計時電量法、多電位階躍計時電流法、多電位階躍計時電量法、恒電位電解I-t曲線、恒電位電解Q-t曲線、恒電位溶出I-t曲線、恒電位溶出Q-t曲線、開路電勢E-t曲線、電位溶出E-t曲線、單電流階躍計時電位法、多電流階躍計時電位法、控制電流E-t曲線、塔菲爾圖TAFEL。
◆主要技術(shù)指標:
電位掃描范圍 ±12.8V
電位分辯率 0.1mV
大恒電流 ±250mA
溫度穩(wěn)定性<10uV/℃
輸入阻抗//電容 >1013Ω//<10pF
CV和LSV掃描速率 0.001~10000mV/s
D/A分辨率 16bit
A/D分辨率 24bit
電位激勵及測量精度 0.2%
電流激勵及測量精度 0.2%
電流測量量程 ±100nA~±250mA共14檔
儀器重量<3kg
儀器尺寸 360×300×14(立方厘米)