CY-MS500S-2TA1S 離子源電子束蒸發(fā)鍍膜儀
參考價 | ¥ 50000 |
訂貨量 | ≥1件 |
- 公司名稱 鄭州成越科學(xué)儀器有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號 CY-MS500S-2TA1S
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時間 2024/12/18 15:41:17
- 訪問次數(shù) 14
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產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 價格區(qū)間 | 5萬-10萬 |
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應(yīng)用領(lǐng)域 | 地礦,能源,建材,電子,冶金 |
簡單介紹:
離子源電子束蒸發(fā)鍍膜儀主要用于制備各種導(dǎo)電薄膜、半導(dǎo)體薄膜、鐵電薄膜、光學(xué)薄膜,微納器件微加工,電鏡樣品預(yù)處理等,尤其適用蒸鍍各種難熔金屬材料。不僅可用于玻璃片、硅片等硬質(zhì)襯底,也可用用于PDMS、PTFE、PI等柔性襯底上鍍膜
用于制造各種光學(xué)元件上的增透膜、反射膜、濾光膜等。如在鏡片上鍍制增透膜可減少反射光,增加透光率,提高成像質(zhì)量;在激光反射鏡上鍍制高反射率膜,能有效提高激光的反射效率。
在新材料的研發(fā)過程中,可利用離子源電子束蒸發(fā)鍍膜儀制備各種新型薄膜材料,研究其物理、化學(xué)和光學(xué)等性能,為新材料的開發(fā)和應(yīng)用提供基礎(chǔ)數(shù)據(jù)支持。
該儀器可用于研究材料的表面改性、界面特性等表面科學(xué)問題。通過控制鍍膜工藝參數(shù),制備不同結(jié)構(gòu)和性能的薄膜,深入了解材料表面與薄膜之間的相互作用,為表面工程技術(shù)的發(fā)展提供理論依據(jù)。
技術(shù)參數(shù):
使用條件 | 環(huán)境溫度 | 5℃~40℃ |
電源 | 380V | |
功率 | ≤20KW | |
水壓 | ≤2.5bar | |
真空室尺寸 | 蒸發(fā)室尺寸 | φ500×H500(㎜) |
過渡倉庫 | φ280×H300(㎜) | |
電子槍 | 新型電子槍1套,6穴坩堝 | |
離子源 | 考夫曼離子源K08一套 | |
樣品轉(zhuǎn)盤 | 樣品尺寸:≤φ150mm,樣品可旋轉(zhuǎn),也可上下升降調(diào)節(jié)樣品到電子槍距離(樣品托形狀按用戶要求設(shè)計),加熱溫度≤500℃ | |
系統(tǒng)真空度 | 極限真空 | 經(jīng)12~24小時烘烤,連續(xù)抽氣≤5x10-5Pa |
抽氣速率 | 從大氣開始40分鐘內(nèi)真空度≤5x10-4Pa | |
系統(tǒng)漏率 | 整機漏率≤1×10-8Pa.L/s 停泵關(guān)機12小時后,測量真空室真空度≤10Pa | |
抽真空系統(tǒng) | TY1200分子泵+機械泵(VRD-30)系統(tǒng),并設(shè)置旁路抽氣 | |
鍍膜監(jiān)測 | 采用TM160膜厚儀進行監(jiān)測 | |
鍍膜厚度的不均勻度 | ≤3% |