1.產品概述：

該設備主要由有機/金屬源蒸發沉積室、真空排氣系統；真空測量系統；蒸發源；電控系統；配氣系統等部分組成。

2.設備用途：

熱蒸發是指把待鍍膜的基片或工件置于真空室內，通過對鍍膜材料加熱使其蒸發氣化而沉積于基體或工件表面并形成薄膜或涂層的工藝過程。可在高真空下蒸發高質量的不同厚度的金屬薄膜，廣泛應用于物理，生物，化學，材料，電子等域。蒸鍍薄膜種類：Au, Cr, Ag, Al, Cu, In,有機物等

3.產品配置：

真空室結構:六邊形側開門

真空室尺寸:φ350×370mm

限真空度:≤6.6E-4Pa

沉積源:1個鎢舟、2個有機源

樣品尺寸，溫度:大可放置4片20mmx25mm的基片，基片不加熱，可自轉，速度5～20轉/分；

占地面積（長x寬x高）:約1米x1米x1.9米

電控描述:手動

樣品臺：可放置基片，并可能具有旋轉、加熱等功能，以滿足不同的工藝需求。例如，加熱功能可以使樣品達到一定溫度，適應某些材料的沉積要求；旋轉功能有助于提高薄膜的均勻性。

控制系統：采用先進的控制系統，方便用戶設置和調整工藝參數，如蒸發速率、沉積時間等。

多種材料沉積能力：可以沉積多種不同的薄膜材料，以滿足不同的應用需求。

良好的穩定性和可靠性：確保系統能夠長時間穩定運行，保證薄膜沉積的重復性和一致性。

可視化操作界面：可能具有直觀的操作界面，方便用戶進行操作和監控。

不同型號的 SMART 蒸發薄膜沉積系統在具體參數和功能上可能會存在差異，例如真空度的高低、蒸發源的類型和功率、樣品臺的尺寸和可調節范圍、膜厚監測的精度等。