化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>實(shí)驗(yàn)室常用設(shè)備>其它實(shí)驗(yàn)室常用設(shè)備>鍍膜機(jī)> VTC-600-3HD-1000三靶磁控濺射儀
VTC-600-3HD-1000三靶磁控濺射儀
- 公司名稱 沈陽(yáng)科晶自動(dòng)化設(shè)備有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號(hào)
- 產(chǎn)地 遼寧沈陽(yáng)
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2024/1/17 8:35:34
- 訪問次數(shù) 1125
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切割機(jī),金剛石線切割機(jī),研磨拋光機(jī),提拉涂膜機(jī),旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī),真空鍍膜機(jī),管式爐,箱式爐,電池實(shí)驗(yàn)研究設(shè)備,清洗機(jī)
產(chǎn)地類別 | 國(guó)產(chǎn) | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
---|---|---|---|
應(yīng)用領(lǐng)域 | 冶金,綜合 |
VTC-600-3HD-1000三靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發(fā)的一款高真空鍍膜設(shè)備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-3HD-1000三靶磁控濺射儀配備有三個(gè)靶槍和三個(gè)電源,一個(gè)射頻電源用于非導(dǎo)電材料的濺射鍍膜,一個(gè)直流電源用于導(dǎo)電材料的濺射鍍膜,可選配強(qiáng)磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。與同類設(shè)備相比,且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn),且可使用的材料范圍廣,是一款實(shí)驗(yàn)室制備各類材料薄膜的理想設(shè)備。
1、配置三個(gè)靶槍,兩個(gè)配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜,一個(gè)配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜。
2、可制備多種薄膜,應(yīng)用廣泛。
3、體積小,操作簡(jiǎn)便。
產(chǎn)品名稱 | VTC-600-3HD-1000雙靶磁控濺射儀 | |
產(chǎn)品型號(hào) | VTC-600-3HD-1000 | |
主要參數(shù) | 1、輸入電源:220V/50Hz | |
產(chǎn)品規(guī)格 | 主機(jī)尺寸:寬900mm×深650mm×高1100mm |