關鍵參數 | 分辨率 | 1.3nm @ 3 kV,SE;1.9nm @ 3 kV,BSE; | |
2.2 nm @ 1 kV,SE;3.3 nm @ 1 kV,BSE; | |||
加速電壓 | 100 V~6 kV(減速模式) | ||
6 kV~30 kV(非減速模式) | |||
放大倍率 | 66~1,000,000x | ||
電子槍類型 | 高亮度肖特基場發射電子槍 | ||
物鏡類型 | 浸沒式電磁復合物鏡 | ||
樣品裝載系統 | 真空系統 | 全自動控制,無油真空系統 | |
樣品監控 | 樣品倉監控水平攝像頭 ; 換樣倉監控垂直攝像頭 | ||
樣品最大尺寸 | 直徑4英寸 | ||
樣品臺 | 類型 | 電機驅動3軸樣品臺(*可選配壓電驅動樣品臺) | |
行程 | X、Y軸:110mm; Z軸:28mm; | ||
重復定位精度 | X軸:±0.6μm; Y軸:±0.3μm; | ||
換樣方式 | 全自動控制 | ||
換樣時間 | <15 min | ||
換樣倉清洗 | 全自動控制等離子清洗系統 | ||
圖像采集與處理 | 駐點時間 | 10 ns/pixel | |
圖像采集速度 | 2*100 M pixel/s | ||
圖像大小 | 8K*8K | ||
探測器和擴展 | 標配 | 鏡筒內混合電子探測器 | |
選配 | 低角度背散射電子探測器 | ||
鏡筒內高角度背散射電子探測器 | |||
壓電驅動樣品臺 | |||
高分辨大場模式 | |||
樣品倉等離子清洗系統 | |||
6英寸樣品裝載系統 | |||
主動減震臺 | |||
AI降噪;大圖拼接;三維重構 | |||
軟件 | 語言 | 中文 | |
操作系統 | Windows | ||
導航 | 光學導航、手勢快捷導航 | ||
自動功能 | 自動樣品識別、自動選區拍攝、自動亮度對比度、自動聚焦、自動像散 |
時間:
創新:
2023-08-08
高速自動化
全自動上下樣流程和采圖作業,綜合成像速度優于常規場發射掃描電鏡的 5 倍
大場低畸變
跟隨掃描場動態變化的光軸,實現了更低的場邊緣畸變
低壓高分辨
樣品臺減速技術,實現低落點電壓,同時保證高分辨率
全自動上下樣流程和采圖作業,綜合成像速度優于常規場發射掃描電鏡的 5 倍
大場低畸變
跟隨掃描場動態變化的光軸,實現了更低的場邊緣畸變
低壓高分辨
樣品臺減速技術,實現低落點電壓,同時保證高分辨率
背散射電子圖像分辨率 | 1.3nm @ 3 kV,SE | 產地類別 | 國產 |
---|---|---|---|
二次電子圖象分辨率 | 1.9nm @ 3 kV,BSEnm | 放大倍數 | 66~1,000,000xx |
加速電壓 | 100 V~6 kV(減速模式)kV | 價格區間 | 700萬-1500萬 |
儀器種類 | 熱場發射 | 應用領域 | 醫療衛生,化工,生物產業,地礦,電子 |
高速掃描電子顯微鏡 HEM6000
HEM6000是一款可實現跨尺度大規模樣品成像的高速掃描電子顯微鏡。采用高亮度大束流電子槍、高速電子偏轉系統、高壓樣品臺減速、動態光軸、浸沒式電磁復合物鏡等技術,實現了高速圖像采集和成像,同時保證了納米級分辨率。面向應用場景的自動化操作流程設計,使得大面積的高分辨率圖像采集工作更高效、更智能。成像速度可達常規場發射掃描電鏡的5倍以上。
核心技術
高速掃描電子顯微鏡產品優勢
高速自動化
全自動上下樣流程和采圖作業,綜合成像速度優于常規場發射掃描電鏡的 5 倍
低壓高分辨
樣品臺減速技術,實現低落點電壓,同時保證高分辨率
大場低畸變
跟隨掃描場動態變化的光軸,實現了更低的場邊緣畸變
應用領域
應用案例
大規模成像
高速掃描電子顯微鏡產品參數