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全自動離子濺射儀

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濺射儀噴金儀

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      江蘇雷博科學(xué)儀器有限公司2013年9月成立于江蘇江陰,是一家初期以 高檔專業(yè)的實(shí)驗(yàn)室儀器開發(fā)為目標(biāo)的海歸創(chuàng)業(yè)企業(yè)。公司主營高檔實(shí)驗(yàn)室儀器及半導(dǎo)體設(shè)備開發(fā)業(yè)務(wù)。公司技術(shù) 力量雄厚,人才濟(jì)濟(jì),憑借雄厚的技術(shù)實(shí)力不斷進(jìn)行新產(chǎn)品開發(fā)和創(chuàng)新實(shí)現(xiàn), 在納米薄膜制備類儀器領(lǐng)域取得了顯著的市場地位。公司生產(chǎn)的高精度高可 靠性勻膠機(jī)榮獲江蘇省高新技術(shù)產(chǎn)品,是國內(nèi)勻膠機(jī)全系列、多功能、定制 化服務(wù)的供應(yīng)商

      公司生產(chǎn)和銷售不同領(lǐng)域的高檔科研儀器和工業(yè)半導(dǎo)體設(shè)備:Schwan technology®是我們的納米薄膜制備類設(shè)備品牌,主要有勻膠機(jī)、顯影機(jī)、 烤膠機(jī)、提拉機(jī)、噴膠機(jī)、涂膜機(jī)、狹縫涂布機(jī)等相關(guān)產(chǎn)品;L EB O science®是我們的工業(yè)半導(dǎo)體設(shè)備品牌,主要有勻膠機(jī)、顯影機(jī)、蝕刻機(jī)、 去膠機(jī)、清洗機(jī)等獨(dú)立柜式機(jī)臺及工業(yè)全自動機(jī)臺。 公司產(chǎn)品被廣泛應(yīng)用于納米薄膜制備需求的鈣鈦礦薄膜太陽能、有機(jī)光 電、MEMS、聲表、光通訊、化合物半導(dǎo)體及先進(jìn)封裝等領(lǐng)域,具有核心技 術(shù)可靠、高性價比、定制化服務(wù)的競爭優(yōu)勢。

 

勻膠機(jī)、顯影機(jī)、烤膠機(jī)、刻蝕機(jī)、清洗機(jī)

產(chǎn)地類別 國產(chǎn) 價格區(qū)間 5萬-10萬
控制方式 觸屏控制 樣品倉尺寸 直徑150mm*高度130mmmm
樣品臺尺寸 直徑55mmmm 應(yīng)用領(lǐng)域 化工,生物產(chǎn)業(yè),能源,電氣,綜合
  全自動離子濺射儀工作原理:
 
  直流冷陰極二極管式,靶材處于常溫,加負(fù)高壓1-3kv,陽極接地。當(dāng)接通高壓,陰極發(fā)射電子,電子能量增加到1-3kev,轟擊低真空中(3-10pA)的氣體,使其電離,激發(fā)出的電子在電場中被加速,繼續(xù)轟擊氣體,產(chǎn)生聯(lián)級電離,形成等離子體。離子以1-3kev的能量轟擊陰極靶,當(dāng)其能量高于靶材原子的結(jié)合能時,靶材原子或者原子簇,脫離靶材,又經(jīng)過與等離子體中的殘余氣體碰撞,因此方向各異,當(dāng)落在樣品表面時,可以在粗糙的樣品表面形成厚度均一的金屬薄膜,而且與樣品的結(jié)合強(qiáng)度高。如果工作室中的氣體持續(xù)流動,保持恒定壓力,這時的離子流保持恒定。高壓的功率決定了最大離子流,一般有最大離子流限制,用于保護(hù)高壓電源。
 
  全自動離子濺射儀的操作:
 
  一般工作距離可調(diào),距離越近,濺射速度越快,但熱損傷會增加。
 
  離子流的大小通過控制真空壓力實(shí)現(xiàn),真空度越低,I越大,濺射速度越快,原子結(jié)晶晶粒越粗,電子轟擊樣品(陽極)產(chǎn)生的熱量越高;真空度越高,I越小,濺射速度越慢,原子結(jié)晶晶粒越細(xì)小,電子轟擊樣品產(chǎn)生的熱量小。
 
  加速電壓為固定,也有可調(diào)的,加速電壓越高,對樣品熱損傷越大。一般使用金屬靶材的正比區(qū)域。
 
  有些熱敏樣品,需要對樣品區(qū)進(jìn)行冷卻,水冷或者帕爾貼冷卻;也可以采用磁控裝置,像電磁透鏡一樣把電子偏離樣品。經(jīng)過這樣的改造,當(dāng)然會增加很高的成本。可以在石蠟表面濺射一層金屬,而沒有任何損傷!
 
  真空中的雜質(zhì)越多,鍍膜質(zhì)量越差。一般黃金比較穩(wěn)定,可以采用空氣作為等離子氣源,而其他很多靶材則需要惰性氣體為好。
 
  氣體原子序數(shù)越高,動量越大,濺射越快,但晶粒會較粗,連續(xù)成膜的膜層較厚。
 
  保持真空室的潔凈對高質(zhì)量的鍍膜有很大好處。
 
  不要讓機(jī)械真空泵長期保持極限真空,否則容易反油。


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