| 產地類別 | 進口 | 價格區間 | 面議 |
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| 應用領域 | 電子,汽車,電氣 | 基片尺寸 | 可達11英寸 |
| 極限真空 | 5×10-7mbar | 成膜厚度均勻性 | 優 |
Moorfield Nanotechnology是英國材料科學域高性能儀器研發公司，成立二十多年來注于高質量的薄膜生長與加工技術，擁有雄厚的技術實力，推出的多種高性能設備受到科研與工業域的廣泛好評。高精度薄膜制備與加工系統 - MiniLab是英國Moorfield Nanotechnology公司經過多年技術積累與改進的旗艦型系列產品。MiniLab系列產品的定位是配置靈活、模塊化設計的PVD系統，可用于高質量的科學研究和中試生產。
高精度薄膜制備與加工系統 - MiniLab自推出以來銷售已突破200套。這些設備已經進入了歐洲各大學和科研單位實驗室，諸如曼徹斯大學、劍橋大學、帝國理工學院、諾森比亞大學、巴斯大學、埃克塞大學、倫敦瑪麗女·王大學、哈德斯菲爾德大學、萊頓大學、亞森工業大學、西班牙光子科學研究所、英國國家物理實驗室等著名單位都是Moorfield Nanotechnology的用戶和長期合作者。諸多的用戶與合作者讓產品的性能和設計理念得到了高速發展，并邁入全球化的進程。
如今Quantum Design中國子公司與Moorfield Nanotechnology正式合作，作為中國的總代理和戰略合作伙伴，將為中國用戶提供高性能的設備與質的服務。除了MiniLab系列之外我們還提供多種高性能的臺式設備和定制服務。
設備型號
MiniLab 026 MiniLab 026系統是小型落地式真空鍍膜設備，具有容易操作的“翻蓋”式真空腔。適用于金屬、電介質和有機物的蒸發和濺射沉積鍍膜。 MiniLab 026采用體化設計方案，真空腔的部分向下插入支撐框架內。腔室可以采用翻蓋式或鐘罩式。該系統可配備多種沉積技術，熱蒸發和低溫蒸發源(生長金屬和有機物)，磁控濺射源(金屬和無機)。沉積源通常安裝在腔室底部，樣品他安裝在頂部，可容納直徑達6英寸的基片。可提供基片加熱、旋轉和Z-shift。MiniLab 026還與手套箱兼容，是MiniLab系列中唯·可以輕松與用戶現有手套箱集成的系統。 薄膜生長方式可選：熱蒸發（金屬）、低溫熱蒸發(有機物)、磁控濺射（金屬、氧化物、氮化物、緣體） |
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MiniLab 060 MiniLab 060系統是MiniLab系列中最·受歡迎的通用平臺，具有前開門式的箱式腔室，適用于多源磁控濺射，也適用于熱蒸發和電子束蒸發。 MiniLab 060采用體化設計方案，真空腔體安裝在控制系統電子機柜上。系統可以配備各種沉積技術，包括熱蒸發和低溫蒸發源(生長金屬和有機物)，磁控濺射源(金屬和無機)，電子束源(除有機物外的大多數材料類別)。沉積源通常安裝在腔室底部，但濺射源也可以采用頂部安裝的方式。樣品臺可容納的基片尺寸高達11英寸，可提供基片加熱、旋轉、偏壓和Z-shift。可配置行星式樣品臺、源擋板和基片擋板。系統配置可從手動操作的熱蒸發系統到具有全自動過程控制的多種生長方案。必要時MiniLab 060系統可提供快速進樣室。 薄膜生長方式可選：熱蒸發（金屬）、低溫熱蒸發(有機物)、電子束蒸發、磁控濺射（金屬、氧化物、氮化物、緣體） |
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MiniLab 080 MiniLab 080采用高腔體設計，非常適合熱蒸發、低溫熱蒸發和電子束蒸發，更長的工作距離以獲得更好的薄膜均勻性。 MiniLab 080真空腔體安裝于控制系統電子機柜上。該系統非常適用于需要較長的工作距離以獲得更好均勻性的蒸發技術。蒸發入射角接近90°，對于光刻器件獲得·好的lift off效果。除了熱蒸發、有機物熱蒸發和電子束蒸發外，該系統還可以用于磁控濺射（用做復合生長系統）。 樣品臺通常在腔室的頂部，可以容納基片尺寸高達11英寸直徑。可提供基板加熱、旋轉、偏壓和Z-shift。可配置行星式樣品臺、源擋板和基片擋板。系統配置可從手動操作的熱蒸發系統到具有全自動過程控制的多種生長方案。必要時MiniLab 080系統可提供快速進樣室。 薄膜生長方式可選：熱蒸發（金屬）、低溫熱蒸發(有機物)、電子束蒸發、磁控濺射（金屬、氧化物、氮化物、緣體） |
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MiniLab 090 MiniLab 090系統是為兼容手套箱開發的，適用于對大氣敏感的薄膜生長。高腔室設計方案是高性能蒸發的理想選擇，同時也可以采用磁控濺射方式。 MiniLab 090系統是用于金屬、電介質和有機物沉積的落地PVD系統。系統包含個箱式不銹鋼腔體，前、后雙開門設計可與手套箱集成，允許通過手套箱中前門或者外部的后門對系統進行操作。真空腔體具有大的高寬比，非常適合通過蒸發技術進行長工作距離的高均勻性涂層，但系統也可以配備磁控濺射。真空度于5×10-7mbar。針對客戶的預算和需求可提供非常靈活的配置。系統配置可從手動操作的熱蒸發系統到具有全自動過程控制的多種生長方案。 薄膜生長方式可選：熱蒸發（金屬）、低溫熱蒸發(有機物)、電子束蒸發、磁控濺射（金屬、氧化物、氮化物、緣體） |
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MiniLab 125 MiniLab 125系統將模塊化設計概念帶進了中試規模。大的腔室允許增加組件的尺寸，進而滿足大面積涂層需求，結合快速進樣室設計方案，可提高樣品的吞吐量。同時，系統是*可定制化的，以匹配定的鍍膜需求。 MiniLab 125系統是落地式真空鍍膜設備可用于金屬、電介質和有機薄膜沉積。系統包含個帶有前門的箱式不銹鋼腔體，用于取放樣品。大的腔室體積可以用于中試規模的涂層或采用較為復雜的配置滿足靈活多變的實驗需求。系統可安裝所有主要的沉積組件或定制的組件。系統的本底真空可達5×10-7mbar。可根據用戶的預算和具體應用采用靈活的配置方案。 薄膜生長方式可選：熱蒸發（金屬）、低溫熱蒸發(有機物)、電子束蒸發、磁控濺射（金屬、氧化物、氮化物、緣體） |
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