1.GVC-2000磁控離子濺射儀基本無(wú)溫升、樣品表面無(wú)熱損失

   

    GVC-2000制樣效果圖                        其他制樣設(shè)備效果圖

上面兩張圖片為濾膜類樣品的電鏡圖片，左側(cè)圖片為GVC-2000噴金后的電鏡觀測(cè)圖，可以看出，樣品形貌真實(shí)完整，右側(cè)圖片為其他設(shè)備噴金后的電鏡觀測(cè)圖片，可以看出，熱損傷嚴(yán)重，幾乎無(wú)法識(shí)別為同種樣品。

濺射儀顆粒更小，更適宜于高倍圖像觀測(cè)，適配場(chǎng)發(fā)射/高分辨場(chǎng)發(fā)射電鏡。


 

                        金顆粒尺寸：6~10nm

 

陶瓷膜，鍍層材料Pt，10萬(wàn)倍圖片，無(wú)顆粒感   濾膜材料，鍍層材料Pt，20萬(wàn)倍圖片，無(wú)顆粒感

技術(shù)參數(shù)

靶材尺寸：   57mm

樣品臺(tái)尺寸：  65mm

樣品倉(cāng)尺寸：  130×120mm

GVC-2000磁控離子濺射儀特點(diǎn)：

1、儀器采用微處理器控制，自動(dòng)化程度高精確控制、易于操作；

2、靶材利用率更高，磁控濺射靶材利用率為直流濺射的2倍,為用戶節(jié)約靶材費(fèi)用；

3、金膜顆粒絕大多數(shù)＜10nm，顆粒更細(xì)，均勻度更好，附著力更強(qiáng)，觀測(cè)效果更佳；

4、低電壓、較好真空度下的實(shí)現(xiàn)大電流濺射，可濺射金、銀、銅、鉑等常用金屬靶材；

5、電子和負(fù)離子被磁場(chǎng)束縛在靶材附近，鍍膜過(guò)程中基本沒有溫升，適用溫度敏感性樣品；

6、內(nèi)置用戶使用向?qū)Ш驼f(shuō)明書，方便用戶 操作；內(nèi)置膜厚估算公式，便于用戶了 解離子濺射儀工作狀態(tài)；

7、采用微處理器控制，擴(kuò)展性能好，可實(shí)時(shí)顯示真空度、濺射電流、濺射時(shí)間、設(shè)備運(yùn)行時(shí)間、靶材使用時(shí)間等，方便了解設(shè)備情況，具備過(guò)流、真空保護(hù)功能，安全可靠。