GVC-2000T 高真空磁控離子濺射儀
具體成交價以合同協議為準
- 公司名稱 北京格微儀器有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號 GVC-2000T
- 產地
- 廠商性質 生產廠家
- 更新時間 2024/12/17 13:49:56
- 訪問次數 3216
聯系方式:范斌18611817232 查看聯系方式
聯系我們時請說明是化工儀器網上看到的信息,謝謝!
產地類別 | 國產 | 價格區間 | 面議 |
---|---|---|---|
應用領域 | 環保,能源,電子,電氣,綜合 | 濺射電壓 | 300-600V,根據選擇靶材、控制參數不同而變化 |
濺射電流 | 0-200mA連續可調,步長10mA | 濺射時間 | 0-9999s,?連續可調步長1s |
樣品臺直徑 | ≥90mm | 真空室 | 高硅硼玻璃,規格尺寸約φ170×130mm |
沒有熱損傷,效率更高,顆粒度更細,更適合高分辨電鏡。
高真空磁控離子濺射儀應用領域
1、高分辨掃描電鏡樣品制備(實際放大倍數≥100K)。
2、電極制備-可制備各種金屬電極、ITO電極。
設備配置與技術參數
名稱&型號 | 高真空磁控離子濺射儀GVC-2000T |
真空系統 | 渦輪分子泵(進口 ):德國萊寶90i (單磁懸浮分子泵,抽速為90L/s) 旋片式真空泵:浙江飛越VRD-4 (抽速為 1 .1L/s) |
真空測量 | 全量程復合真空規(進口):丹麥Sens4 VPM-5 量程范圍:1.0E5Pa-1E-4Pa |
系統極限真空 | ≤5E-3Pa |
濺射電源 | 磁控濺射電源,最大功率150W |
可用靶材 | 金、鉑金、銀、銅、鋁、鈦、鎳、鐵、鉬、鎢等金屬靶材 |
濺射電壓 | 300-600V,根據選擇靶材、控制參數不同而變化 |
濺射電流 | 0-200mA連續可調,步長10mA |
濺射時間 | 0-9999s, 連續可調步長1s |
操作界面 | 7英寸TFT彩色液晶觸摸屏,分辨率800×480 |
抽氣節拍 | <15分鐘 |
控制方式 | 只需設定濺射電流和時間即可,全自動控制 具備預濺射擋板(預濺射時間可設定),全自動控制 |
保護功能 | 軟硬件互鎖、防止誤操作,具備電流、真空保護等 |
樣品臺直徑 | ≥90mm |
真空室 | 高硅硼玻璃,規格尺寸約φ170×130mm |
電源供電 | 220V 50Hz 最大功率800W |
尺寸&重量 | 重量 420(長) ×330(深) ×450mm(高)、 25 kg (凈重) |
冷卻方式 | 風冷 |
選配 | 樣品臺選擇、膜厚控制、溫度監測等 |
鍍膜樣品示例: