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化工儀器網>產品展廳>配件耗材>質譜儀配件/附件>離子源> 上海伯東進口 KRI 考夫曼離子源 KDC 100

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上海伯東進口 KRI 考夫曼離子源 KDC 100

具體成交價以合同協議為準

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上海伯東是德國 Pfeiffer  真空設備, 美國  KRI 考夫曼離子源, 美國 inTEST 高低溫沖擊測試機, 美國 Gel-pak 芯片包裝盒, 日本 NS 離子蝕刻機, 比利時 Europlasma 等離子表面處理機 和美國 Ambrell 感應加熱設備等進口品牌代理商 .我們真誠期待與您的合作!




質譜分析儀,氦質譜檢漏儀,分子泵,離子源,真空閥門

供貨周期 一個月以上
KRI 考夫曼離子源 KDC 100

KRI 考夫曼離子源 KDC 100
上海伯東代理美國進口 KRI 考夫曼離子源 KDC 100 中型規格柵極離子源, 廣泛加裝在薄膜沉積大批量生產設備中, 考夫曼離子源 KDC 100 采用雙陰極燈絲和自對準柵極, 標準配置下離子能量范圍 100 至 1200ev, 離子電流可以超過 400 mA.

KRI 考夫曼離子源 KDC 100 技術參數:

型號

KDC 100

供電

DC magnetic confinement

 - 陰極燈絲

2

 - 陽極電壓

0-100V DC

電子束

OptiBeam™

 - 柵極

專用, 自對準

 -柵極直徑

12 cm

中和器

燈絲

電源控制

KSC 1212

配置

-

 - 陰極中和器

Filament, Sidewinder Filament  或LFN 2000

 - 安裝

移動或快速法蘭

 - 高度

9.25'

 - 直徑

7.6'

 - 離子束

聚焦
平行
散設

 -加工材料

金屬
電介質
半導體

 -工藝氣體

惰性
活性
混合

 -安裝距離

8-36”

 - 自動控制

控制4種氣體

* 可選: 可調角度的支架

KRI 考夫曼離子源 KDC 100 應用領域:
濺鍍和蒸發鍍膜 PC
輔助鍍膜(光學鍍膜)IBAD
表面改性, 激活 SM
離子濺射沉積和多層結構 IBSD
離子蝕刻 IBE

若您需要進一步的了解考夫曼離子源, 請參考以下聯絡方式
上海伯東: 羅先生




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