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上海伯東代理 KRI 考夫曼離子源 KDC 160

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質(zhì)譜分析儀,氦質(zhì)譜檢漏儀,分子泵,離子源,真空閥門

供貨周期 一個(gè)月以上
KRI 考夫曼離子源 KDC 160

KRI 考夫曼離子源 KDC 160
上海伯東代理美國(guó)進(jìn)口 KRI 考夫曼離子源 KDC 160是目前考夫曼 KDC 系列大,離子能量強(qiáng)的柵極離子源, 適用于已知的所有離子源應(yīng)用, 離子源 KDC 160 高輸出設(shè)計(jì),大電流超過(guò) 1000 mA. 無(wú)需水冷, 降低安裝要求并排除腔體漏水的幾率, 雙陰極設(shè)計(jì),標(biāo)準(zhǔn)配置下離子能量范圍 100 至 1200ev, 離子電流可以超過(guò) 800 mA.

KRI 考夫曼離子源 KDC 160 技術(shù)參數(shù)

型號(hào)

KDC 160

供電

DC magnetic confinement

 - 陰極燈絲

2

 - 陽(yáng)極電壓

0-100V DC

電子束

OptiBeam™

 - 柵極

專用, 自對(duì)準(zhǔn)

 -柵極直徑

16 cm

中和器

燈絲

電源控制

KSC 1212

配置

-

 - 陰極中和器

Filament, Sidewinder Filament  或LFN 2000

 - 安裝

移動(dòng)或快速法蘭

 - 高度

9.92'

 - 直徑

9.1'

 - 離子束

聚焦
平行
散設(shè)

 -加工材料

金屬
電介質(zhì)
半導(dǎo)體

 -工藝氣體

惰性
活性
混合

 -安裝距離

8-45”

 - 自動(dòng)控制

控制4種氣體

* 可選: 可調(diào)角度的支架

KRI 考夫曼離子源 KDC 160 應(yīng)用領(lǐng)域
濺鍍和蒸發(fā)鍍膜 PC
輔助鍍膜(光學(xué)鍍膜)IBAD
表面改性, 激活 SM
離子濺射沉積和多層結(jié)構(gòu) IBSD
離子蝕刻 IBE

若您需要進(jìn)一步的了解考夫曼離子源, 請(qǐng)參考以下聯(lián)絡(luò)方式
上海伯東: 羅先生 




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