SF-3 分光干渉式晶圓膜厚儀
- 公司名稱 大塚電子(蘇州)有限公司
- 品牌 OTSUKA/日本大塚
- 型號(hào) SF-3
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2020/6/12 16:11:24
- 訪問(wèn)次數(shù) 1327
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產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
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應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,化工,電子,印刷包裝,電氣 |
分光干渉式晶圓膜厚儀
分光干渉式晶圓膜厚儀即時(shí)檢測(cè)
WAFER基板于研磨制程中的膜厚
玻璃基板于減薄制程中的厚度變化
(強(qiáng)酸環(huán)境中)
產(chǎn)品特色
- 非接觸式、非破壞性光學(xué)式膜厚檢測(cè)
- 采用分光干涉法實(shí)現(xiàn)高度檢測(cè)再現(xiàn)性
- 可進(jìn)行高速的即時(shí)研磨檢測(cè)
- 可穿越保護(hù)膜、觀景窗等中間層的檢測(cè)
- 可對(duì)應(yīng)長(zhǎng)工作距離、且容易安裝于產(chǎn)線或者設(shè)備中
- 體積小、省空間、設(shè)備安裝簡(jiǎn)易
- 可對(duì)應(yīng)線上檢測(cè)的外部信號(hào)觸發(fā)需求
- 采用適合于膜厚檢測(cè)的獨(dú)自解析演算法。
- 可自動(dòng)進(jìn)行膜厚分布制圖(選配項(xiàng)目)
規(guī)格式樣
SF-3 | |
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膜厚測(cè)量范圍 | 0.1 μm ~ 1600 μm※1 |
膜厚精度 | ±0.1% 以下 |
重復(fù)精度 | 0.001% 以下 |
測(cè)量時(shí)間 | 10msec 以下 |
測(cè)量光源 | 半導(dǎo)體光源 |
測(cè)量口徑 | Φ27μm※2 |
WD | 3 mm ~ 200 mm |
測(cè)量時(shí)間 | 10msec 以下 |
※1 隨光譜儀種類不同,厚度測(cè)量范圍不同
※2 小Φ6μm