適合采用集成光源的緊湊外殼的薄膜厚度計AFW-100W原理分析
這是配備光譜儀的標(biāo)準(zhǔn)型號,非常適合采用集成光源的緊湊外殼的薄膜厚度計。可以進(jìn)行非接觸式測量,因此您不必注意涂層工作表面。
它涵蓋了廣泛的測量波長和可測量的薄膜厚度。
可測量波長:380nm~1050nm
可測量膜厚:100nm~60μm
反射分光膜厚計AFW-100W
反射分光式膜厚計測量原理
當(dāng)光線照射在透明薄膜上時,在薄膜表面反射的光(R1)與在薄膜內(nèi)部折射并在基材表面反射的光(R2)重疊,導(dǎo)致光線增強(qiáng)或減弱。
這種現(xiàn)象稱為“光干涉” 。當(dāng)光的相位匹配時,強(qiáng)度增加,而當(dāng)相位偏移時,強(qiáng)度減小。
右圖是“光干涉”的圖像。 “反射分光膜厚計”是通過分析該光的干涉(波長)來測量膜厚的方法。
計算理論
C/F(曲線擬合)
求使測量反射率與理論反射率之差的平方最小的膜厚值。
推薦在波紋數(shù)為3個以下時使用(膜厚約1μm)。
FFT(快速傅里葉變換)
通過FFT計算確定某一波長寬度內(nèi)表示膜厚的干涉波形的數(shù)量,并由此導(dǎo)出一個周期的波長寬度。
建議在有3個或更多波紋時使用(膜厚約1μm)。
模型 | AFW-100W |
目的 | 一般膜厚用 |
設(shè)備配置 | 單元主體、測量臺、分支光纖(1.5m)、PC、膜厚測量樣品 |
測量波長范圍 | 380nm~1050nm |
膜厚測量范圍 | 100nm至1μm(曲線擬合法) |
1μm~60μm(FFT法) | |
測量重復(fù)性 | 0.2%至1%(取決于膜質(zhì)量) |
測量光斑直徑 | 約7毫米 |
光源 | 12V-50W 鹵素?zé)?/span> |
測量理論 | 曲線擬合法/FFT法 |
外形尺寸(毫米) | 機(jī)身:W230 x D230 x H135 |
測量臺:W150 x D150 x H115 | |
大約重量 | 5.5kg *不包括電腦 |
公用事業(yè) | 交流100V 50/60Hz |
消耗品 | 鹵素?zé)?/span> |
相關(guān)產(chǎn)品
免責(zé)聲明
- 凡本網(wǎng)注明“來源:化工儀器網(wǎng)”的所有作品,均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡(luò)有限公司-化工儀器網(wǎng)合法擁有版權(quán)或有權(quán)使用的作品,未經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)不得轉(zhuǎn)載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)使用作品的,應(yīng)在授權(quán)范圍內(nèi)使用,并注明“來源:化工儀器網(wǎng)”。違反上述聲明者,本網(wǎng)將追究其相關(guān)法律責(zé)任。
- 本網(wǎng)轉(zhuǎn)載并注明自其他來源(非化工儀器網(wǎng))的作品,目的在于傳遞更多信息,并不代表本網(wǎng)贊同其觀點和對其真實性負(fù)責(zé),不承擔(dān)此類作品侵權(quán)行為的直接責(zé)任及連帶責(zé)任。其他媒體、網(wǎng)站或個人從本網(wǎng)轉(zhuǎn)載時,必須保留本網(wǎng)注明的作品第一來源,并自負(fù)版權(quán)等法律責(zé)任。
- 如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)等問題,請在作品發(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系,否則視為放棄相關(guān)權(quán)利。