100 多年來(lái),熱噴涂層以其多種形式而存在。熱噴涂的原理非常簡(jiǎn)單——原料通常以粉末或金屬絲的形式存在,對(duì)其進(jìn)行加熱使其部分或全部熔化,
并以高速?lài)娚湎蚧氖沟妙w粒在撞擊時(shí)發(fā)生變形,在此過(guò)程中,顆粒發(fā)生凝固并機(jī)械結(jié)合到基材表面。
這其中涂層孔隙率是描述涂層密度的重要指標(biāo),通常采用金相法制備樣品并進(jìn)行孔隙率的測(cè)量。然而,長(zhǎng)期以來(lái)的實(shí)踐已經(jīng)證實(shí),在尋找合適的制備方法
以及不同實(shí)驗(yàn)室間重復(fù)同種方法得到的結(jié)果卻并不相同。
最近的一項(xiàng)“循環(huán)”實(shí)驗(yàn)證明了實(shí)驗(yàn)室之間的差異。
實(shí)驗(yàn)邀請(qǐng)了在金相制備和樣品分析方面有著豐富經(jīng)驗(yàn)的技術(shù)工作人員,但不同參與者之間測(cè)得的孔隙率值差異很大,任何實(shí)驗(yàn)室均可實(shí)現(xiàn)良好的結(jié)果可
重復(fù)性。這意味著在多孔熱噴涂層的制備和分析中,方法變化是導(dǎo)致誤差的主要因素。
實(shí)驗(yàn)方法
我們對(duì)T800(HVOF)涂層和WC-Co(等離子噴涂)涂層進(jìn)行了取樣。基于ASTM E1920-03(2014)中推薦的方法I和II進(jìn)行了實(shí)驗(yàn),選擇這些方法是因?yàn)樗鼈兇?/span>
了工業(yè)中最常見(jiàn)的方法,也是普遍接受的制備標(biāo)準(zhǔn)。方法I是在短時(shí)間內(nèi)使用一系列SiC紙,然后在Trident布上進(jìn)行制備階段,最后使用膠體氧化硅在絨布上進(jìn)行
拋光。方法II僅采用一個(gè)SiC研磨步驟,然后在無(wú)絨毛拋光布上進(jìn)行兩次金剛石拋光,再用膠體氧化硅進(jìn)行拋光。
這些實(shí)驗(yàn)旨在分別觀察這兩種方法中切割、鑲嵌和研磨對(duì)實(shí)測(cè)孔隙率的影響。
切割和研磨的影響
金相法很難表征切割損傷對(duì)樣品的影響,但目前建議精密切割機(jī)配合金剛石切割片的方法切割樣品。在本實(shí)驗(yàn)中將先切割后鑲嵌的樣品與先鑲嵌后切割(可在切割過(guò)程中保護(hù)涂層)的樣品進(jìn)行比較。兩組樣本均使用IsoMet高速精密切割機(jī)(圖1)。
切割前鑲嵌樣品可保護(hù)其免受損傷
可以通過(guò)充分研磨來(lái)去除切割產(chǎn)生的損傷,以獲得相同的孔隙率結(jié)果
鑲嵌材料的影響
本實(shí)驗(yàn)選取T800HVOF樣品,均鑲嵌在單個(gè)樣品模具內(nèi),采用中心力加載,并使用方法I和方法II制備的樣品組。
對(duì)于這兩種較硬的材料,方法I不如方法II有效,尤其是在鑲嵌樹(shù)脂內(nèi)加入陶瓷顆粒增強(qiáng)的樣品中更為明顯。由于陶瓷的磨削率較低,陶瓷對(duì)SiC具有鈍化作用,研磨拋光過(guò)程中的去除率會(huì)大大降低。
低粘度環(huán)氧樹(shù)脂表現(xiàn)更好,丙烯酸鑲嵌(SamplKwick)的結(jié)果較差。
制備方案
為了觀察制備方法的直接效果,對(duì)WC-Co(等離子噴涂)涂層進(jìn)行取樣,遵循實(shí)踐總結(jié)的最佳建議,鑲嵌兩組樣品,如下所示:
清潔/脫脂樣品:用水沖洗樣品,然后在乙醇中浸泡10分鐘以吸收孔隙中的水分
干燥。不要用裸露的皮膚接觸樣品,以免沾染油污
使用EpoThin樹(shù)脂鑲嵌樣品并在SimpliVac中真空浸漬
在Isomet HS高速切割機(jī)上切割樣品
以所需方向重新鑲嵌切割樣品
在中心力夾具中制備所有樣品,以獲得最大的平整度和重現(xiàn)性
我們發(fā)現(xiàn)制備后的樣品孔隙率與圖2中所示的非常相似(對(duì)于先鑲嵌后切割的樣品)。在制備過(guò)程中,我們?cè)诿總€(gè)階段分析了樣品的孔隙率,結(jié)果如下圖6所示。
此過(guò)程的圖像如圖8所示:
結(jié)論
相關(guān)產(chǎn)品
免責(zé)聲明
- 凡本網(wǎng)注明“來(lái)源:化工儀器網(wǎng)”的所有作品,均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡(luò)有限公司-化工儀器網(wǎng)合法擁有版權(quán)或有權(quán)使用的作品,未經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)不得轉(zhuǎn)載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)使用作品的,應(yīng)在授權(quán)范圍內(nèi)使用,并注明“來(lái)源:化工儀器網(wǎng)”。違反上述聲明者,本網(wǎng)將追究其相關(guān)法律責(zé)任。
- 本網(wǎng)轉(zhuǎn)載并注明自其他來(lái)源(非化工儀器網(wǎng))的作品,目的在于傳遞更多信息,并不代表本網(wǎng)贊同其觀點(diǎn)和對(duì)其真實(shí)性負(fù)責(zé),不承擔(dān)此類(lèi)作品侵權(quán)行為的直接責(zé)任及連帶責(zé)任。其他媒體、網(wǎng)站或個(gè)人從本網(wǎng)轉(zhuǎn)載時(shí),必須保留本網(wǎng)注明的作品第一來(lái)源,并自負(fù)版權(quán)等法律責(zé)任。
- 如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)等問(wèn)題,請(qǐng)?jiān)谧髌钒l(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系,否則視為放棄相關(guān)權(quán)利。