隨著顯示技術的發展，電致發光器件(Light Emitting Diode，LED)已成為當前發展前景的顯示，有著傳統顯示技術不可比擬的優勢。其中有機電致發光器件(Organic Light Emitting Diode, OLED)因其輕薄、視角廣、響應時間短、發光效率高、成本低等優點成為新一代顯示技術。但是OLED器件對水和空氣極為敏感，為保證OLED器件的壽命，通常要求封裝材料的水汽透過率(WVTR)小于10-6 g/(m2·day)。

       傳統的OLED封裝技術通常利用厚膜，甚至高分子聚合物/玻璃進行封裝，以達到預期的阻隔性能。這些傳統的封裝技術導致OLED保護層厚度增加，從而導致發光強度減弱。厚膜還會增加顯示器件的硬度，不適合用于彎曲或者折疊的顯示器。

       原子層沉積(Atomic Layer Deposition, ALD)技術是一種原子尺度的薄膜制備技術，沉積的薄膜均勻性好、材料致密、厚度精確可控且工藝溫度適中，是超高阻隔膜的理想制備方法，可兼容OLED器件的封裝，大大延長其壽命。

       幾十納米厚度的ALD封裝膜甚至可媲美傳統OLED封裝技術的阻隔效果，同時具有良好的透光率、熱導率、機械強度、耐腐蝕性及與基底的粘結性等性質；ALD封裝薄膜因其納米級的膜厚，可以實現很大程度上的彎曲并保持封裝效果不變，這一特性可兼容柔性OLED器件封裝，真正做到顯示屏的可折疊、卷曲；ALD薄膜優異的保型性使其在一些復雜形貌和三維納米結構的LED表面實現出色的鈍化保護層，有效地起到阻隔水氧的作用，提高性能；用ALD在LED表面沉積鈍化膜還可以很好地修補被等離子刻蝕造成的破壞性表面，可有效降低漏電流，顯著提高LED效率。

圖一：在ITO-聚酯膜上制備的柔性OLED顯示單元

圖2：OLED封裝類型及不同柔性需求對應的水汽透過率