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一、干涉儀是一種對光在兩個不同表面反射后形成的干涉條紋進行分析的儀器。其基本原理就是通過不同光學元件形成參考光路和檢測光路。
二、工作原理：
(1)干涉儀是利用干涉原理測量光程之差從而測定有關物理量的光學儀器。兩束相干光間光程差的任何變化會非常靈敏地導致干涉條紋的移動，而某一束相干光的光程變化是由它所通過的幾何路程或介質折射率的變化引起，所以通過干涉條紋的移動變化可測量幾何長度或折射率的微小改變量，從而測得與此有關的其他物理量。
(2)測量精度決定于測量光程差的精度，干涉條紋每移動一個條紋間距，光程差就改變一個波長(～10-7米)，所以干涉儀是以光波波長為單位測量光程差的，其測量精度之高是任何其他測量方法所無法比的。
三、應用領域：半導體晶片、液晶產品(CS,LGP,BIU)、微機電系統、光纖產品、數據存儲盤(HDD,DVD,CD)、材料研究、精密加工表面、生物醫學工程。
四、技術規格：
1.非接觸式測量：避免物件受損。
2.三維表面測量：表面高度測量范圍為1nm---200μm。
3.多重視野鏡片：方便物鏡的快速切換。
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