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用于半導(dǎo)體晶片檢測(cè)的日本非接觸式厚度測(cè)量?jī)x OZUMA CL
用于半導(dǎo)體晶片檢測(cè)的日本非接觸式厚度測(cè)量?jī)x OZUMA CL
半導(dǎo)體晶片（Si硅晶片、GaAs、砷化鎵Ga）、砷（As）、玻璃、金屬等。它是。OZUMA CL 非接觸式厚度測(cè)量裝置用于半導(dǎo)體晶片（Si 硅晶片、GaAs、鎵 (Ga) 砷 (As)）背面拋光工藝或每個(gè)制造工藝中的厚度（厚度）控制?？捎糜诰A（厚度）控制的非接觸式測(cè)量。
分辨率為 0.01 μm。
由于是激光非接觸方式 ，因此無(wú)需擔(dān)心探針等劃傷被測(cè)物體。由于是非接觸式，因此可以對(duì)同一被測(cè)物進(jìn)行厚度（厚度）、翹曲度、平行度等重復(fù)測(cè)量。由于激光傳感頭上下相對(duì)放置，因此可以準(zhǔn)確測(cè)量厚度，而不受被測(cè)物體“滑行”引起的抬升的影響。
除了氣壓，我們還制造油壓、水壓等單元，各種定制測(cè)量?jī)x器（空氣、激光、光譜干涉儀、圖像等）和試驗(yàn)機(jī)（振動(dòng)、沖擊、耐久性等）。 . 如果您想自動(dòng)化人們目前正在做的工作，我們也期待收到您的來(lái)信。
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