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日本Otsuka大塚OPTM series顯微分光膜厚儀
  • 發布時間2025-02-24
  • 播放次數64次
視頻簡介
日本Otsuka大塚OPTM series顯微分光膜厚儀-成都藤田科技提供● 非接觸、非破壞式,量測頭可自由集成在客戶系統內● 初學者也能輕松解析建模的初學者解析模式● 高精度、高再現性量測紫外到近紅外波段內的反射率,可分析多層薄膜厚度、光學常數(n:折射率、k:消光系數)● 單點對焦加量測在1秒內完成● 顯微分光下廣范圍的光學系統(紫外 ~ 近紅外)● 獨立測試頭對應各種inline定制化需求●...
視頻簡介

日本Otsuka大塚OPTM series顯微分光膜厚儀-成都藤田科技提供

日本Otsuka大塚OPTM series顯微分光膜厚儀

● 非接觸、非破壞式,量測頭可自由集成在客戶系統內

● 初學者也能輕松解析建模的初學者解析模式

● 高精度、高再現性量測紫外到近紅外波段內的反射率,可分析多層薄膜厚度、光學常數(n:折射率、k:消光系數)

● 單點對焦加量測在1秒內完成

● 顯微分光下廣范圍的光學系統(紫外 ~ 近紅外)

● 獨立測試頭對應各種inline定制化需求

● 最小對應spot約3μm

● 可針對超薄膜解析nk

量測項目

●  反射率分析

●  多層膜解析(50層)

●  光學常數(n:折射率、k:消光系數)

膜或者玻璃等透明基板樣品,受基板內部反射的影響,無法正確測量。OPTM系列使用物鏡,可以物理去除內部反射,即使是透明基板也可以實現高精度測量。此外,對具有光學異向性的膜或SiC等樣品,也可不受其影響,單獨測量上面的膜。

日本Otsuka大塚OPTM series顯微分光膜厚儀

應用范圍

● 半導體、復合半導體:硅半導體、碳化硅半導體、砷化鎵半導體、光刻膠、介電常數材料

● FPD:LCD、TFT、OLED(有機EL)

● 資料儲存:DVD、磁頭薄膜、磁性材料

● 光學材料:濾光片、抗反射膜

● 平面顯示器:液晶顯示器、薄膜晶體管、OLED

● 薄膜:AR膜、HC膜、PET膜等

● 其它:建筑用材料、膠水、DLC等


規格式樣

(自動XY平臺型)


OPTM-A1

OPTM-A2

OPTM-A3

波長范圍

230 ~ 800 nm

360 ~ 1100 nm

900 ~ 1600 nm

膜厚范圍

1nm ~ 35μm

7nm ~ 49μm

16nm ~ 92μm

測定時間

1秒 / 1點以內

光徑大小

10μm (最小約3μm)

感光元件

CCD

InGaAs


光源規格

氘燈 鹵素燈

鹵素燈


尺寸

556(W) X 566(D) X 618(H) mm (自動XY平臺型的主體部分)

重量

66kg(自動XY平臺型的主體部分)

量測案例

半導體行業 - SiO2、SiN膜厚測定案例

日本Otsuka大塚OPTM series顯微分光膜厚儀

FPD行業 - 彩色光阻膜厚測定

日本Otsuka大塚OPTM series顯微分光膜厚儀

FPD行業 – 用傾斜模式解析ITO構造

日本Otsuka大塚OPTM series顯微分光膜厚儀

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