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日本Otsuka大塚OPTM series顯微分光膜厚儀
日本Otsuka大塚OPTM series顯微分光膜厚儀

貨物所在地:四川成都市

更新時(shí)間:2025/2/27 9:34:46

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日本Otsuka大塚OPTM series顯微分光膜厚儀-成都藤田科技提供
MINUK可評(píng)價(jià)nm級(jí)的透明的異物?缺陷,一次拍照即可瞬時(shí)獲得深度方向的信息,可非破壞?非接觸?非侵入的進(jìn)行測(cè)量。且無需對(duì)焦,可在任意的面進(jìn)行高速掃描,輕松決定測(cè)量位置。


詳細(xì)介紹

日本Otsuka大塚OPTM series顯微分光膜厚儀-成都藤田科技提供

日本Otsuka大塚OPTM series顯微分光膜厚儀

● 非接觸、非破壞式,量測(cè)頭可自由集成在客戶系統(tǒng)內(nèi)

● 初學(xué)者也能輕松解析建模的初學(xué)者解析模式

● 高精度、高再現(xiàn)性量測(cè)紫外到近紅外波段內(nèi)的反射率,可分析多層薄膜厚度、光學(xué)常數(shù)(n:折射率、k:消光系數(shù))

● 單點(diǎn)對(duì)焦加量測(cè)在1秒內(nèi)完成

● 顯微分光下廣范圍的光學(xué)系統(tǒng)(紫外 ~ 近紅外)

● 獨(dú)立測(cè)試頭對(duì)應(yīng)各種inline定制化需求

● 最小對(duì)應(yīng)spot約3μm

● 可針對(duì)超薄膜解析nk

量測(cè)項(xiàng)目

●  反射率分析

●  多層膜解析(50層)

●  光學(xué)常數(shù)(n:折射率、k:消光系數(shù))

膜或者玻璃等透明基板樣品,受基板內(nèi)部反射的影響,無法正確測(cè)量。OPTM系列使用物鏡,可以物理去除內(nèi)部反射,即使是透明基板也可以實(shí)現(xiàn)高精度測(cè)量。此外,對(duì)具有光學(xué)異向性的膜或SiC等樣品,也可不受其影響,單獨(dú)測(cè)量上面的膜。

日本Otsuka大塚OPTM series顯微分光膜厚儀

應(yīng)用范圍

● 半導(dǎo)體、復(fù)合半導(dǎo)體:硅半導(dǎo)體、碳化硅半導(dǎo)體、砷化鎵半導(dǎo)體、光刻膠、介電常數(shù)材料

● FPD:LCD、TFT、OLED(有機(jī)EL)

● 資料儲(chǔ)存:DVD、磁頭薄膜、磁性材料

● 光學(xué)材料:濾光片、抗反射膜

● 平面顯示器:液晶顯示器、薄膜晶體管、OLED

● 薄膜:AR膜、HC膜、PET膜等

● 其它:建筑用材料、膠水、DLC等


規(guī)格式樣

(自動(dòng)XY平臺(tái)型)


OPTM-A1

OPTM-A2

OPTM-A3

波長范圍

230 ~ 800 nm

360 ~ 1100 nm

900 ~ 1600 nm

膜厚范圍

1nm ~ 35μm

7nm ~ 49μm

16nm ~ 92μm

測(cè)定時(shí)間

1秒 / 1點(diǎn)以內(nèi)

光徑大小

10μm (最小約3μm)

感光元件

CCD

InGaAs


光源規(guī)格

氘燈 鹵素?zé)?/p>

鹵素?zé)?/p>


尺寸

556(W) X 566(D) X 618(H) mm (自動(dòng)XY平臺(tái)型的主體部分)

重量

66kg(自動(dòng)XY平臺(tái)型的主體部分)

量測(cè)案例

半導(dǎo)體行業(yè) - SiO2、SiN膜厚測(cè)定案例

日本Otsuka大塚OPTM series顯微分光膜厚儀

FPD行業(yè) - 彩色光阻膜厚測(cè)定

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FPD行業(yè) – 用傾斜模式解析ITO構(gòu)造

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