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氮化硅為無定形態，無碳，無雜質；具有良好的化學穩定性使圖像分辨率和機械強度達到理想的平衡；其支持膜具有良好的平整度和疏水性。同一種膜可應用于TN-EM、SEM、EDX、AFM、XPS等對同一區域的交叉配對表征。薄膜和基底耐酸，可滿足酸性條件下制備、研究樣品。
產品編號 | 薄膜厚度 | 薄膜厚度 |
TN-G010Z | 10nm | 0.10x0.10mm |
TN-G015Z | 10nm | 0.15x0.15mm |
TN-G025A | 15nm | 0.25x0.25mm |
TN-G050A | 15nm | 0.5x0.5mm |
TN-G025B | 30nm | 0.25x0.25mm |
TN-G050B | 30nm | 0.5x0.5mm |
TN-G025C | 50nm | 0.25x0.25mm |
TN-G050C | 50nm | 0.5x0.5mm |
TN-G100C | 50nm | 1x1mm |
TN-G050D | 100nm | 0.5x0.5mm |
TN-G025E | 200nm | 0.25x0.25mm |
TN-G050E | 200nm | 0.5x0.5mm |
TN-R010Z | 10nm | 0.1x0.1mm x9窗口 |
TN-R010A | 15nm | 0.1x0.1mm x9窗口 |
TN-R010B | 30nm | 0.1x0.1mm x9窗口 |
TN-R010C | 50nm | 0.1x0.1mm x9窗口 |
TN-A015A | 15nm | 0.1x1.5mmx2窗口 |
TN-AA015C | 50nm | 0.1x1.5mmx9窗口 |
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