目錄:廈門韞茂科技有限公司>>半導(dǎo)體行業(yè)專用儀器>>原子層沉積設(shè)備>> GM10/100/1000粉末原子層沉積
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更新時間:2024-08-22 13:12:25瀏覽次數(shù):1026評價
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價格區(qū)間 | 100萬-200萬 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 綜合 |
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一、粉末原子層沉積核心參數(shù):
價格區(qū)間:100萬-200萬
產(chǎn)地類別:國產(chǎn)原子層沉積系統(tǒng)(ALD)
襯底尺寸:10g-1000g粉末
工藝溫度:RT-300℃
前驅(qū)體數(shù):2組反應(yīng)氣體8組液態(tài)或固態(tài)反應(yīng)前驅(qū)體
重量:300KG
尺寸(WxHxD):1150*1030*1850mm
均勻性:在粉末表面實(shí)現(xiàn)均勻原子層包覆,包覆均一性<3%
二、原子層沉積(Atomiclayerdeposition)是通過將氣相前驅(qū)體脈沖交替地通入反應(yīng)腔體內(nèi)并在沉積基體上化學(xué)吸附并反應(yīng)而形成沉積膜的一種技術(shù),具有自限性和自飽和。原子層沉積技術(shù)主要應(yīng)用是在各種尺寸和形狀的基底上沉積高精度、無針孔、高保形的納米薄膜。
三、粉末原子層沉積產(chǎn)品描述:
廈門韞茂科技公司的GM系列自動粉末原子層沉積設(shè)備它可以在微納米粉體上實(shí)現(xiàn)均勻可控的原子層沉積或分子層沉積生長,GM1000的反應(yīng)室可自動運(yùn)行ALD(原子層沉積)或MLD(分子層沉積),設(shè)備配有獨(dú)立控制的300℃完整加熱反應(yīng)腔室系統(tǒng),保證工藝溫度均勻。該系統(tǒng)具有粉末樣品桶、動態(tài)粉末流化機(jī)構(gòu)、全自動溫度控制、ALD前驅(qū)體源鋼瓶、自動溫度控制閥、工業(yè)級安全控制,以及現(xiàn)場RGA、QCM、臭氧發(fā)生器、手套箱等設(shè)計(jì)選項(xiàng)。是*能源材料、催化劑材料、新型納米材料研究與應(yīng)用的最佳研發(fā)工具。
四、售后服務(wù):
保修期:1年
是否可延長保修期:否
現(xiàn)場技術(shù)咨詢:有
免費(fèi)培訓(xùn):1.設(shè)備出廠前,提供至少2人一周的設(shè)備原廠培訓(xùn)。2.設(shè)備在現(xiàn)場完成安裝調(diào)試
免費(fèi)儀器保養(yǎng):有需要可安排
保內(nèi)維修承諾:保修期內(nèi)(除天災(zāi)和人為損害外)部件、元件費(fèi)用、出差費(fèi)用均由我司承擔(dān)
報(bào)修承諾:質(zhì)保期內(nèi)出現(xiàn)故障時我司將及時響應(yīng),并在8小時內(nèi)派技術(shù)人員到現(xiàn)場解決故障
五、技術(shù)參數(shù):
(空格分隔,最多3個,單個標(biāo)簽最多10個字符)