目錄:沈陽(yáng)科晶自動(dòng)化設(shè)備有限公司>>真空鍍膜機(jī)>>磁控濺射鍍膜>> VTC-600GD高真空磁控濺射儀
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更新時(shí)間：2024-12-26 08:42:30瀏覽次數(shù)：594評(píng)價(jià)
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| 產(chǎn)地類(lèi)別 | 國(guó)產(chǎn) | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 綜合 |
VTC-600GD高真空磁控濺射儀是新自主研制開(kāi)發(fā)的鍍膜設(shè)備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600GD高真空磁控濺射儀至多可選配四個(gè)靶槍?zhuān)涮咨漕l電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜，配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜。與同類(lèi)設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn)，是一款實(shí)驗(yàn)室制備材料薄膜的理想設(shè)備，特別適用于實(shí)驗(yàn)室研究固態(tài)電解質(zhì)及OLED等。
至多可選配四個(gè)靶槍?zhuān)涮咨漕l電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜，配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜（靶槍可以根據(jù)客戶需要任意調(diào)換）。
可制備多種薄膜，應(yīng)用廣泛。
體積小，操作簡(jiǎn)便。
整機(jī)模塊化設(shè)計(jì)，真空腔室、真空泵組、控制電源分體式設(shè)計(jì)，可根據(jù)用戶實(shí)際需要調(diào)整。
可根據(jù)用戶實(shí)際需要選擇電源，可以一個(gè)電源控制多個(gè)靶槍?zhuān)部啥鄠€(gè)電源單一控制靶槍。
| 產(chǎn)品名稱 | VTC-600GD高真空磁控濺射儀 | |
| 產(chǎn)品型號(hào) | VTC-600GD | |
| 安裝條件 | 本設(shè)備要求在溫度25℃±15℃，濕度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水：設(shè)備配有自循環(huán)冷卻水機(jī)（加注純凈水或者去離子水） 2、電：AC220V 50Hz，必須有良好接地 3、氣：設(shè)備腔室內(nèi)需充注氬氣（純度99.99%以上），需自備氬氣氣瓶（自帶?6mm雙卡套接頭）及減壓閥 4、工作臺(tái)：尺寸1500mm×600mm×700mm，承重200kg以上 5、通風(fēng)裝置：需要 | |
| 主要參數(shù) | 1、電源電壓：220V 50Hz 2、總功率：＜3.5KW 3、腔體內(nèi)徑：?300mm 4、極限真空8.0x10-5Pa 5、工作溫度：RT-500℃，精度±1℃（可根據(jù)實(shí)際需要提升溫度） 6、靶槍數(shù)量：4個(gè) 7、靶槍冷卻方式：水冷 8、靶材尺寸：?2″，厚度0.1mm-5mm（因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同） 9、直流濺射功率：500W（可選） 10、射頻濺射功率：300W 11、載樣臺(tái)：?140mm 12、載樣臺(tái)轉(zhuǎn)速：1rpm-20rpm內(nèi)可調(diào) 13、保護(hù)氣體：Ar、N2等惰性氣體 14、進(jìn)氣氣路：質(zhì)量流量計(jì)控制2路進(jìn)氣，1個(gè)流量為100 SCCM，1個(gè)流量為200 SCCM | |
| 產(chǎn)品規(guī)格 | ·尺寸： 主機(jī)尺寸：850mm×760mm×660mm，整機(jī)尺寸：1300mm×660mm×1200mm； ·重量：190kg | |
| 序號(hào) | 名稱 | 數(shù)量 | 圖片鏈接 |
| 1 | 直流電源控制系統(tǒng) | （可選）套 | - |
| 2 | 射頻電源控制系統(tǒng) | 1套 | - |
| 3 | 膜厚監(jiān)測(cè)儀系統(tǒng) | 1套 | - |
| 4 | 分子泵 | 1臺(tái) | - |
| 5 | 冷水機(jī) | 1臺(tái) | - |
| 6 | 聚酯PU管（?6mm） | 4m | - |
| 序號(hào) | 名稱 | 功能類(lèi)別 | 圖片鏈接 |
| 1 | 金、銦、銀、鉑等各種靶材 | （可選） |  - |
| 2 | 可選配強(qiáng)磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜 | （可選） | - |
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