蒸發鍍膜儀是一種用于在真空環境中通過物理氣相沉積技術制備薄膜的設備。它主要用于在各種基材上沉積一層或多層薄膜，廣泛應用于電子、光學、材料科學等領域。
蒸發鍍膜儀是一種用于在基底上制備均勻材料薄膜的設備，通過物理方法產生薄膜材料。其工作原理主要是利用加熱源(如電子束或電阻加熱)將材料加熱至高溫，使其蒸發并沉積在基底表面上，形成所需的薄膜。
工作原理
蒸發鍍膜儀的工作原理基于物理氣相沉積(PVD)技術。具體過程包括以下幾個步驟：
真空環境：使用真空泵將蒸發室內的氣體抽出，創造一個高真空環境，以避免材料在蒸發過程中與氣體反應。
蒸發源：將待鍍材料放置在蒸發源(如鎢舟或電子束加熱器)上，通過電阻加熱、電子束加熱等方式使材料蒸發。
沉積：蒸發的材料在基片上沉積，形成所需的薄膜。
特點：
電子束加熱比電阻加熱具有更高的通量密度，可以蒸發高熔點材料，如W、Mo、Al2O3等，并可得到較高的蒸發速率。
被蒸發材料置于水冷銅坩堝內，真空蒸發鍍膜機可避免坩堝材料污染，可制備高純薄膜。
電子束蒸發粒子動能大，有利于獲得致密、結合力好的膜層。
綜上所述，蒸發鍍膜儀是一種重要的薄膜制備設備，在多個領域都有廣泛的應用。在選購和維護時，需要充分考慮實際需求和預算。
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