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臥式真空熱處理爐 LFT1200 400D60-VIII-HVK設備設計為高通量實驗使用，設備有8套獨立的溫控系統溝通，8根獨立的石英管可同時參試8組不同實驗，...

此井式坩堝爐設備是集控制系統與爐膛為一體,爐膛是使用真空成型高純氧化鋁聚輕材料，采用電阻絲為加熱元件，最高發熱溫度可達1200℃。采用雙層殼體結構，配有風冷系統...

該設備為1400系列雙溫區立式管式爐，可兩段獨立控溫。根據實驗需求可得到兩段不同的溫場，也可得到超長恒溫區。

預加熱石英管真空封口系統主要用于實現樣品的無氧無水真空密封保存和高溫固相合成，整套系統由真空封管系統、真空泵系統、分子泵系統、加熱系統、氫氧機等組成，標準化定制...

1200系列六溫區真空回轉爐主要適用于中小批量粉末材料在高溫條件下熱處理或者粉末材料的表面生長，該回轉加熱系統集控制系統與爐膛為一體。爐膛使用高純氧化鋁纖維材料...

碳納米膜制備設備如圖所示，由氣體質量流量計控制系統、液體注液系統、多段溫度可控多區生長系統、水冷卻系統、碳納米線或膜收集系統，紅外烘干系統等組成。

LFT系列 1600系列立式真空管式爐采用硅鉬棒進行加熱，設計針對于材料在真空或氣氛保護環境下對材料進行燒結，溫度可以達1600℃，采用雙層殼體結構，使得殼體表...

CVD化學氣相沉積多通道質量流量控制系統一款多路質量流量計控制系統，化學氣相沉積設備質量流量計和不銹鋼混氣罐都安裝在一個移動柜里，移動柜Z大可以承重1000Lb...

恒溫電熱鼓風干燥箱 箱體內均采用鏡面不銹鋼或拉絲板材料氬弧焊制作而成，箱體外采用優質鋼板材料，造型美觀、新穎。1.采用具有控溫保護、帶有定時功能的數字顯示微電腦...

該石墨烯制備設備雙溫區滑軌式CVD系統系統由預熱爐、雙溫區滑軌爐、質子流量控制系統、真空系統三部分組成。CVD（化學氣象沉積系統）常用于表面材料生長、沉積，是一...

立式管式爐，高溫高壓管式爐集控制系統與爐膛為一體。爐襯使用真空成型高純氧化鋁聚輕材料，采用電阻絲為加熱元件。該設備采用立式結構設計，石英管豎直放置與爐膛內部，四...

LFT1700C系列高溫真空管式爐如圖所示，集控制系統與爐膛為一體。爐襯使用1800型真空成型高純氧化鋁聚輕材料，加熱元件為優質硅鉬棒。

IFVM-1250真空箱式爐，真空氣氛箱式爐采用雙層殼體結構，爐膛使用氧化鋁多晶纖維材料，廣泛應用于材料金屬在低真空、還原性、保護性氣氛下的熱處理，也可用于特殊...

化學氣相沉積設備描述：CVD化學氣相沉積多通道質量流量控制系統一款多路質量流量計控制系統，其質量流量計和不銹鋼混氣罐都安裝在一個移動柜里，移動柜Z大可以承重10...

立式雙工位石英真空封管機系統主要用于實現樣品的無氧無水真空密封保存和高溫固相合成，整套系統由真空封管機、氫氧機、分子泵系統、石英管、連接接頭等組成、標準化定制石...

感應區域熔爐系統可調角度工位。石英玻璃管與感應線圈采用整體式設計,底部安裝電動機械機構。

四工位封管系統主機含分子泵機組由使用封口機和高真空系統組成。此結構為立式結構，石英管垂直固定，上端為動密封固定，上端固定裝置與下端支撐裝置為連軸聯動設計，上下可...

供氣系統是一款2路質量流量計控制系統，其質量流量計和不銹鋼混氣罐都安裝在一個移動柜里，移動柜最大可以承重1000Lbs，所以在與本公司大多數管式爐配套使用時，可...

開啟式真空管式爐紅外熱循環試驗機設備為1200℃開啟式真空管式爐，不僅可以抽真空,也可以通氣體保護。爐管工件為單端封口石英管，紅外燈管環形分布于爐膛四周，升降溫...

等離子清洗機等離子技術為表面清洗、食品和醫療器械的消毒提供了一種新手段，也帶來了許多新用途。