ICP-MS技術(shù)能夠分析低至亞-ppt(兆分之一)的檢測限值，這么低的檢測限值只能夠在潔凈室的環(huán)境中才能夠達到。由于使用ICP-MS技術(shù)進行痕量元素分析時，在測試早期便會需要用水，因此很明顯水中的任何污染物都將影響到整個分析過程。因而實驗用水必須是分析級別高純度的水，比如：ASTM I型水。下面所述的系列分析實驗的目的在于確保由賽多利斯Arium pro UV水系統(tǒng)生產(chǎn)的超純水具有高純度(在本研究中未檢測到各種金屬元素，因此不含金屬元素)，而且可以在ICP-MS設(shè)備上毫無后顧之憂地用于痕量元素的分析。
ICP技術(shù)建立在原子發(fā)射光譜的原理之上。樣品在高溫氬等離子體中根據(jù)它們的質(zhì)荷比被分解成帶正電荷的離子，而后經(jīng)過質(zhì)譜儀進行檢測分析。原則上，ICP-MS包括以下幾個步驟：樣品制備和進樣，氣溶膠生成，經(jīng)氬等離子體電離，質(zhì)量分餾，檢測系統(tǒng)識別及數(shù)據(jù)分析（根據(jù)Worley和Kvech[1]）。
實驗在1級清潔室中采用Sartorius 的arium pro UV純水系統(tǒng)來完成。樣品取自產(chǎn)水端（沒有安裝終端過濾器），并通過ICP-MS系統(tǒng)7500cs(Agilent)完成分析[2]。
痕量元素分析需要使用高純度的試劑和/或溶劑以及水來確保ICP-MS儀器的度不受影響。比如，純水是創(chuàng)建儀器空白、校準曲線和標準溶液所必需的。純水同樣也是樣品制備所必需的，因此實驗用水必須保證不能檢測出相關(guān)的元素。
下面所述的元素的標準溶液與一儀器空白（0值）一同注入ICP-MS系統(tǒng)，使之生成校準曲線。圖3和圖4顯示的示例是鉛（圖3）和鉻（圖4）的校準曲線，校準曲線是根據(jù)信號值與標準溶液濃度(ppt級)繪制的。表1中的所有元素的濃度都是由繪制的相應(yīng)標準曲線得到的。
在給定的測試條件下，不同ng/l (ppt)數(shù)量級別的元素（上面已詳列）都明顯低于檢測限值。為了獲得如此高質(zhì)量的水，所有系統(tǒng)部件包括管道都要經(jīng)過特殊設(shè)計，來滿足 ICP-MS應(yīng)用的需要和arium pro UV設(shè)備的批量生產(chǎn)。測試結(jié)果也清洗地說明了arium pro UV系統(tǒng)生產(chǎn)的水尤其適用于ICP-MS技術(shù)的相關(guān)應(yīng)用，因其*避免了痕量元素的存在而導(dǎo)致的錯誤或風險的產(chǎn)生。這些都是制藥與環(huán)境行業(yè)以及分析實驗室中進行元素痕量分析的先決條件。
賽多利斯arium® 系列超純水機--成就你的“大禮享”活動火熱進行中！
下載全文查看實驗設(shè)計方案： 下載全文
[1] Information published by Worley, Jenna and Kvech, Steve on the Internet. No date of publication specified: www.cee.vt.edu/ewr/environmental/tweach/smprimer/icpms/icpms.htm
[2] Reinstwasseranalyse am Auslauf der “arium pro UV Anlage“ ATU GmbH-Analytik für Technik und Umwelt, Herrenberg, 2011
21
立即詢價
您提交后，專屬客服將第一時間為您服務(wù)