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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>光刻及涂膠顯影設備>勻膠機>WS--650MZ-23NPPB/IND 勻膠旋涂儀650MZ

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WS--650MZ-23NPPB/IND 勻膠旋涂儀650MZ

具體成交價以合同協議為準
  • 公司名稱 邁可諾技術有限公司
  • 品牌 Laurell
  • 型號 WS--650MZ-23NPPB/IND
  • 產地
  • 廠商性質 代理商
  • 更新時間 2024/5/16 12:40:00
  • 訪問次數 5290

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半導體化工領域專業實驗設備供應商:邁可諾是一家富有創新精神的高科技公司,專業提供光電半導體化工實驗室所需設備耗材的全套解決方案提供商,邁可諾從事開發、設計、生產并營銷質量可靠的、安全易用的技術產品及優質專業的服務,幫助我們的客戶和合作伙伴取得成功。我們成功的基礎是幫助客戶做出更好的選擇和決定,尊重他們的決定,并協助他們實現高效率的科研成果,追求豐富有意義的生活。



勻膠機,光刻機,顯影機,等離子清洗機,紫外臭氧清洗機,紫外固化箱,壓片機,等離子去膠機,刻蝕機,加熱板

應用領域 醫療衛生,化工,生物產業,能源,電子

勻膠旋涂儀650MZ(英文名:Spin Coater)適合半導體硅片的勻膠鍍膜

詳細介紹:勻膠機(英文名:Spin Coater& Spin Processor)
行業俗稱:勻膠臺、勻膠機、旋涂儀、涂膠機、鍍膜機、涂層機
型號:650Mz-23NPP/OND
一、產品概述:
   勻膠旋涂儀650MZ適應于半導體、化工材料、硅片、晶片、基片、導電玻璃等工藝,制版的表面涂覆。MYCRO的MSC系列勻膠機具有穩定的轉速和快速的啟動,可以保證半導體中膠厚度的*性和均勻性,這正是650S 型勻膠機的特點。
二、勻膠機工作原理:
勻膠機(spin coater)的工作原理是高速旋轉基片,利用離心力使滴在基片上的膠液均勻的涂在基片上,甩膠機常用于各種溶膠凝膠(Sol-Gel)實驗中的薄膜制作,厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數而不同,也和旋轉速度及時間有關。
三、勻膠機主要性能指標:
1、腔體尺寸:9.5英寸 (241 毫米);
2、Wafer芯片尺寸:10-150mm直徑的材料,方片125x125mm,小于10mm提供3mm的轉接托盤);
3、轉動速度:0-12,000rpm,
4、旋涂加速度:0-12000rpm/sec;
5、馬達旋涂轉速:穩定性能誤差 < ±1%;
6、轉速調節精度:<1rpm,重復性< 0.2rpm;
7、工藝時間設定:1-5999.9 sec/step 0.1 精度;
8、勻膠機材質:NPP天然聚丙烯材質,抗腐蝕性和抗化學物性,美觀大方;
9、高精度數碼控制器:PLC控制,設置點精度小于0.006%。
10、程序控制:可存儲20個程序段,每個程序段可以設置51步不同的速度狀態;
11、分辨率:分辨率小于1轉/分,可重復性小于±1轉/分,美國國家標準技術研究院(NIST)認證過的,并且無需再校準!]
12、配套真空泵系統:無油型 220~240伏交流,50/60赫茲;
13、配套分析軟件:SPIN3000操作分析軟件;
14、*水平測試儀;  
15、兩袋密封圈;  
16、廢液接收單元;
17、IND構造為濕站系統設計,帶遠程控制;;

可選配置:
OND構造為手套箱系統設計,帶遠程控制;
UD自動滴膠裝置:UD-2帶倒吸裝置的多噴嘴可編程針筒,
EBR(Edge Bead Remover):晶圓去邊,機械裝置;






































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