日本SEN日森真空清洗設備PL1-1107A技術參數真空度：可達到 0~0.001Torr，能有效營造真空環境，為清洗過程提供穩定的基礎條件，確保清洗效果。

紫外光波長：可同時發射 185nm 和 254nm 的紫外光，利用這兩種波長紫外光的特性進行光分解和光敏氧化反應，實現高效清洗和表面處理。

照射尺寸：照射尺寸為 300×400mm，可滿足一定尺寸的工件清洗需求，能夠用作生產機器，適用于批量生產中的表面處理。

日本SEN日森真空清洗設備工作原理：與其他 SEN 日森的 UV 清洗設備類似，該設備利用 185nm 波長紫外光將空氣中的氧氣分解成臭氧，254nm 波長的紫外光將臭氧分解成氧氣和活性氧。活性氧具有強烈的氧化作用，與工件表面的有機物污染物發生氧化反應，使其分解成揮發性氣體逸出，從而達到清洗和表面處理的目的。

應用場景光學領域：可用于透鏡和棱鏡的清潔和表面改性，去除表面的油污、灰塵、指紋等污染物，提高光學元件的透光率和成像質量，改善表面的光學性能。

電子行業：對各種基板材料進行預處理，如半導體硅片、印制電路板等，去除表面的有機物雜質，提高基板表面的清潔度和潤濕性，有利于后續的光刻、鍍膜、焊接等工藝的進行，提高產品的良品率和可靠性。

材料處理：能對金屬和玻璃等材料進行表面處理，改善表面潤濕性，提高材料對粘合劑、油漆和涂料的附著力，增強材料的表面性能和使用壽命。