應用領域 | 環保,食品,化工,電子,制藥 |
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信陽2噸電子廠半導體純水設備通常較為復雜,需要經過多個步驟來確保水質達到半導體生產的高要求。以下是一般的工藝流程:
### 一、預處理階段
1. **原水增壓**
- 原水首先進入原水箱,通過原水泵增壓,為后續處理提供足夠的壓力。
2. **多介質過濾器**
- 經過增壓后的原水進入多介質過濾器,濾料通常包括石英砂、無煙煤等,主要去除水中的懸浮物、泥沙、顆粒雜質等較大顆粒物質,降低水的濁度,保護后續設備。
3. **活性炭過濾器**
- 接著水流通過活性炭過濾器,活性炭具有強大的吸附能力,能吸附水中的余氯、有機物、部分重金屬離子等,改善水的口感和氣味,同時進一步去除水中的微小顆粒雜質。
4. **軟化器**
- 若原水硬度較高,需要經過軟化器進行離子交換處理,去除水中的鈣、鎂離子,防止后續反滲透膜結垢,提高反滲透裝置的運行效率和壽命。
### 二、核心處理階段
1. **一級反滲透裝置**
- 經過預處理的水進入一級反滲透裝置(RO 裝置)。在壓力作用下,水分子透過反滲透膜,而大部分溶解性鹽類、有機物、微生物、細菌等被截留,產水電導率可達到 10μS/cm 以下。一級反滲透的回收率一般在 60%-75%之間。
2. **二級反滲透裝置(可選)**
- 對于水質要求更高的半導體生產,可能還需要進行二級反滲透處理。二級反滲透進一步去除水中的殘留鹽分和雜質,使產水電導率進一步降低到 5μS/cm 以下,甚至更低,以滿足半導體工藝對超純水的高純度要求。二級反滲透的回收率一般在 70%-85%之間。
### 三、后處理階段
1. **脫氣塔**
- 從反滲透裝置出來的純水可能含有一定量的二氧化碳氣體,通過脫氣塔可以去除水中的二氧化碳,降低水的電導率。
2. **EDI 裝置(連續電去離子裝置)**
- EDI 裝置是利用混合離子交換樹脂吸附給水中的陰陽離子,同時在直流電壓的作用下,通過樹脂和水的界面進行相對應離子的交換、遷移,使純水更加純凈,電阻率達到 16MΩ·cm 以上,滿足半導體生產過程中對超純水的高電阻率要求。
3. **紫外線殺菌器**
- 采用紫外線殺菌,破壞水中微生物的 DNA 結構,殺滅水中的細菌、病毒等微生物,確保水質的微生物指標合格。
4. **終端過濾器**
- 在純水出水前設置終端過濾器,通常為孔徑較小的微濾或超濾濾芯,進一步攔截水中可能殘留的微小顆粒雜質,保證出水水質的顆粒物指標達標。
通過以上一系列的工藝步驟,信陽2噸電子廠半導體純水設備能夠制備出符合半導體生產要求的超純水,為半導體芯片制造過程中的清洗、蝕刻、摻雜等關鍵環節提供高質量的水資源,確保半導體產品的質量和性能。