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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>其它半導體行業儀器設備>其它半導體設備> Horiba直接注入式汽化器VC-1420

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Horiba直接注入式汽化器VC-1420

參考價 50000
訂貨量 ≥1
具體成交價以合同協議為準

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我公司代理進口品牌多年,有兩大業務:horiba質量流量控制器和Dwyer儀器儀表及配套管接件。

HORIBA著名的半導體設備供應商,主要提供氣體質量流量控制器、液體質量流量控制器、壓力控制器、汽化器。在半導體設備PECVD、MOCVD、Etch等關鍵工藝有非常廣泛的應用。暢銷的質量流量控制器有高性能的SEC-Z700系列、SEC-D500系列、SEC-Z500系列,低成本的有SEC-N100系列、SEC-E40系列及國內組裝的S600系列、S48系列、S500系列。液體流量控制器有LV-F50LF-F60,壓力液體汽化器UR-Z700系列、GR-200系列、GR-300系列、PV-1000,氣體濃度計IR-300、IR-400,汽化器有VE10、VE20、MV-2000,皂膜流量計SF/VP系列,真空計VG-200S


儀器儀表代理品牌是美國dwyer、美國Omega、日本Horiba美國dwyer德威爾儀表成立有80多年,是美國*的儀器儀表生產商,有多個自主品牌:MagnehelicFlotectMercoidLove,主要產品有:差壓表2000-250Pa、負壓表2000-500Pa2000-60pa2000-25MBAR2000-3KPA2000-1000PA;數顯變送器MS-111MS111LCDMS121LCDMS311LCDMS141LCD;防爆差壓開關1950-1-2F1950-5-2F1950-20-2F1950G-1-2F-241950-0-2Fflotect流量開關V4-2-UV6EPBBS1BATV6EPBBS3BATV6EPBBSLFflotect液位開關L6EPBBS3CCSA;風速變送器641-6-LED641-12-LED641RM-12-LED;轉子流量計RMB-11-SSV-APFRMA-13-SSV-APFRMA-25-SSV-APFRMA-150-SSV-APFRMB-51D-SSV-BPFRMB-57D-SSV-BPFRMB-85D-SSV-BPFVFA-2-BV;高低壓報警開關A3000-1KPA-240VACA3000-750PA-240VAC3000MR-500PA3000MR-60PA3000MR25MM;防爆差壓開關AT23000MRAT21910AT21823AT2MSAT21640AT11910AT1ADPS

另有美國Omega熱電偶、Omega熱電偶插頭、Omega熱電偶線、Omega流量計等;韓國TKSUPER LOK,卡套,超純隔膜閥,VCR直通,鎳墊片,焊接、卡套、VCR接頭,廣泛應用于電子半導體,太陽能,暖通,空調,食品,制藥,生物工程,智能樓宇,電廠,化工,水處理,環境監測,工業制造和實驗室等領域。



氣體質量流量計,熱式質量流量計,熱式質量流量控制器,液體質量流量計,液體質量流量控制器,壓力調節閥,壓差表、壓差傳感器、制粒干燥機

價格區間 2萬-5萬 應用領域 食品,生物產業,電子
液體 可用于不銹鋼材質的液體 氣體 Ar
汽化能力 5g/min(TEOS)

Horiba直接注入式汽化器VC-1420

直接液體注入系統

在半導體測試工藝過程中控制氣體比例和濕度平衡相當困難可以通過以下產品達到準確的氣體平衡和氣體濕度:氣體 MFC(SEC-Z512MGXN112MGX、)、液體 MFM(LF-F20M-A)、汽化器(MV-2000)。


Horiba直接注入汽化器VC-1420能夠在無載氣的情況下快速汽化純水或其他液體源,組建更緊湊的汽化系統。

HORIBA 可為您提供由 Horiba直接注入式汽化器VC-1420和您需要的所有其他組件組成的定制汽化系統:

· 一種用于流量測量的液體質量流量計

· 一種用于蒸氣流量測量的高溫質量流量控制器

· 閥門、過濾器、加熱器等

特征

· 尺寸緊湊

· 可安裝在各種位置

· 暢銷的 TEOS 汽化系統

· 結合 SEF 或 LF,可實現數字控制

· 無需特殊鼓泡罐或汽化罐

· DeviceNetTM 型產品系列

· 符合 RoHS 標準


技術參數

Horiba直接注入式汽化器VC-1420


外形尺寸圖

Horiba直接注入式汽化器VC-1420

HORIBA 是高性能汽化系統的供應商之一。HORIBA 液體源汽化器貫穿整個半導體制程,可以安全有效地將液相化學品以氣相形態輸送至使用點。無論液態化學品是需要在真空下還是大氣壓下汽化,HORIBA 的汽化技術都能提供符合要求的汽化系統。包括:汽化器VC系列、汽化器MV系列、汽化器VE系列。

暢銷型號:VC-1420、MV-1000、MV-2000、VE-10、VE-30.


 

汽化器注入式方法

以下是將液體源氣化并輸送入反應腔的主要步驟。

1.測定液體源的流量,并通過反饋電路,控制閥門開度。

2.液體瞬間全部氣化。

3.氣體被釋放,且不會變回液相狀態。

氣化系統采用注入式的方法繼而按以上1,2,3步進行傳輸。

 

汽化器VC-1420采用內置質量流量計測量液體流量,因此不再需要其他載氣。


 

汽化器VC與其他設備組合使用


汽化器MI-1000、汽化器MV-2000需要配置液體流量計LF-A、載氣流量控制器SEC,來實現液體源汽化。



金屬有機化學氣相沉積(MOCVD)

先進的高精度過程控制儀器用于高產量 MOCVD 應用

電力電子領域的許多行業使用金屬有機化學氣相沉積(MOCVD)作為激光二極管、LED和半導體制造的標準工藝。MOCVD工藝是一種成熟的可控合成方法,它使用了多種MO源,如三甲基銦(TMI)和二乙基鋅(DEZ),需要一種穩健的傳遞方法,以確保沉積過程的重復性和高收率。MOCVD系統利用起泡器汽化,從而控制MO源濃度、生長時間和生長速率。部分MO源用載氣流帶出源瓶,并從起泡器流向腔室。在這個過程中捕獲的MO源的濃度必須是已知的,而且最重要的是必須具有重復性,以提供最大的工藝效率。實現這一目標需要精確、快速和理想的過程變量的閉環控制,包括氣體流量、溫度和壓力。








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