賽默飛雙聚焦輝光放電質譜儀結合了輝光放電離子源和雙聚焦高分辨率質量分析器，可以定性定量分析固體樣品中包括C、N、O在內的幾乎所有元素，是直接、快速分析高純樣品雜志含量和鍍層材料元素組成的工具。

賽默飛雙聚焦輝光放電質譜儀集中了輝光放電和高分辨質譜的優勢，在以下方面有杰出表現：

1、樣品測試通量高：ELEMENT GD離子源和樣品夾的設計使可縮短換樣和分析時間，顯著提高生產率；

2、檢測器線性范圍寬：檢測器線性范圍達12個數量級，可一次掃描同時檢測基體和痕量元素組成；

3、具有固定寬度的低、中、高分辨率狹縫，采用高分辨率可直接分析有質譜干擾的同位素。

1、微秒級脈沖、高流速、大功率

相較靜態 GD，該獨特技術具有出色的靈敏度和較低的多原子干擾，穩定性絕佳、準確度極高并能縮短分析時間，在金屬和合金檢測方面的準確度為 ±30%（無需校準）。

2、雙聚焦質譜儀

高離子傳輸率結合低背景噪聲， 鑄就了無可比擬的信噪比和低至亞 ppb 級的檢出限。高質量分辨率實現最佳選擇性和準確度。

3、十二數量級的自動檢測系統

>擁有 12 個數量級線性動態范圍的全自動檢測器可在一次掃描中同時測定基體和超痕量元素。

4、高效易用的先進軟件包

所有參數均由計算機控制，可實現全自動分析、數據評估以及與自動數據傳輸的 LIMS 連接性。