研磨分散機組成:由高純度的金屬銀的微粒、粘合劑、溶劑、助劑所組成的一種機械混和物的粘稠狀的漿料。導電銀漿對其組成物質要求是十分嚴格的。其品質的高低、含量的多少,以及形狀、大小對銀漿性能都有著密切關系。銀粉的分散效果直接關系到銀漿的質量。所以采用好的分散設備對銀粉的分散是至關重要的,當然分散劑的應用也是*的。
研磨分散機性能:納米銀粉分散混合設備,納米銀粉分散,銀粉比表面積較大,易發生團聚很難分散,如何將銀粉制成銀漿?銀漿的制備,炭黑的制備,銀粉的分散,炭黑的分散,高剪切分散機可幫您解決此類難題。結合客戶實驗案例,采用SGN進行銀粉處理,不僅生產效率快,一般研磨5-10遍即可;而且這種方式相對于三輥機以及砂磨機而言,物料損失更小。
廠家經過研究剛剛研發出來的一款新型產品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質一步到位的物料。我們將三級高剪切均質乳化機進行改裝,我們將三級變更為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經過膠體磨細化物料,然后再經過乳化機將物料分散乳化均質。膠體磨可根據物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)。
研磨分散機性能:納米銀粉分散混合設備,納米銀粉分散,銀粉比表面積較大,易發生團聚很難分散,如何將銀粉制成銀漿?銀漿的制備,炭黑的制備,銀粉的分散,炭黑的分散,高剪切分散機可幫您解決此類難題。結合客戶實驗案例,采用SGN進行銀粉處理,不僅生產效率快,一般研磨5-10遍即可;而且這種方式相對于三輥機以及砂磨機而言,物料損失更小。
廠家經過研究剛剛研發出來的一款新型產品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質一步到位的物料。我們將三級高剪切均質乳化機進行改裝,我們將三級變更為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經過膠體磨細化物料,然后再經過乳化機將物料分散乳化均質。膠體磨可根據物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)。
①線速度很高,剪切間隙非常小,當物料經過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是所說的濕磨。
②定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
③定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離
④在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
⑤高質量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業的多種要求。
流量* | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 | |
類型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
GMSD 2000/4 | 300 | 14,000 | 44 | 4 | DN25/DN15 |
GMSD 2000/5 | 1000 | 10,500 | 44 | 11 | DN40/DN32 |
GMSD 2000/10 | 3000 | 7,300 | 44 | 22 | DN80/DN65 |
GMSD 2000/20 | 8000 | 4,900 | 44 | 37 | DN80/DN65 |
GMSD 2000/30 | 20000 | 2,850 | 44 | 55 | DN150/DN125 |
GMSD2000/50 | 60000 | 2,000 | 44 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調節到zui大允許量的10%。 |