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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>熱工藝設備/熱處理設備>退火爐> RTP快速退火爐600Z

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RTP快速退火爐600Z

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      本所自開發RTP快速退火系列產品以來已近30年。自1988年受中科院委托研發光照快速熱處理設備以來與清華,北大,浙大,半導體所,微電子所,物理所等高校研究所共同進步,為華為,三安光電,中電科等半導體企業保駕護航,也被一些海外的教授專家所青睞。如香港理工大學,香港中文大學,香港科技大學。美國堪薩斯州立大學,美國揚斯頓州立大學和新加坡南洋理工大學也有數臺在科研教學一線。

快速退火爐,真空快速退火爐

RTP快速退火爐600Z
RTP快速退火爐600Z
性能指標 配備狀態
溫度范圍 150 – 1250 ℃
升溫速率 2  —  200℃/秒可調
溫度均勻性 ±2度
樣品尺寸 6英寸
降溫速率 80℃/秒
計算機控制器 聯想筆記本電腦控制, Windows7以及RTP-600控制軟件.
可編程溫度曲線存儲500 條以上, 每條曲線包括50段以上, 溫度設定范圍 100—1300 ℃ , 時間設定范圍1—30000 秒。數據可導出為文本文件便于數據處理。
溫度穩態穩定性 ±2℃
托盤 6英寸石英架
光源 鹵鎢燈
處理氣氛 一路MFC氮氣0-15SLPM
冷卻方式 CDA噴淋,水冷
電源 380 V  63A 三相 4線(三火線, 零線)
水源 自來水或循環水, 水壓 1—3 kg / 平方厘米, 流量6-8升/分

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