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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>薄膜生長設備>物理氣相沉積設備>NANO 36™ 濺射或熱蒸發薄膜沉積系統

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NANO 36™ 濺射或熱蒸發薄膜沉積系統

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深圳市矢量科學儀器有限公司是集半導體儀器裝備代理及技術服務的高新技術企業。

致力于提供半導體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導體分析測試設備、半導體光電測試儀表及相關儀器裝備維護、保養、售后技術支持及實驗室整體服務。

公司目前已授實用新型權利 29 項,軟件著作權 14 項,是創新型中小企業、科技型中小企業、規模以上工業企業。

 

 

 

 

 

 

 

 

冷熱臺,快速退火爐,光刻機,納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發

Kurt J. Lesker Company® NANO 36™ 是我們優化的入門級沉積系統。我們的腔室設計特別適合手套箱集成。NANO 36 具有更高的功能和更小的占地面積,提供了實惠的價格點,同時保持了您期望從 KJLC 獲得的質量。

NANO 36 與以下沉積技術兼容:

  • 熱蒸發(最多四個 2 英寸船組件)。

  • Torus® 磁控濺射源(最多三個 2“ 或 3” 源)。

  • 1cc 或 10cc LTE 有機沉積源(最多四個)。

  • 兩個熱源和兩個 LTE 源的組合。

  • 可根據要求提供定制配置。


NANO 36 提供 Pfeiffer 260 L/s 渦輪分子泵和 KJLC RV206 油封粗泵作為標準組件,并可選擇 Edwards nXDS6i - 3.6 cfm (6.2 m)3/hr) 渦旋粗抽泵。

NANO 36 的基本壓力規格為 9 x 10-7托。

Nano 36 提供單一和多種技術沉積選項(僅限熱 + LTE),包括熱蒸發和磁控濺射 (Torus)。

只有 KJLC 提供 Mag-Keeper 濺射源,該濺射源在陰極體中具有零 O 形圈和磁耦合靶材,可輕松更換靶材。(通過手套箱改變目標時的游戲規則改變者!我們的冷卻井設計可在 200 瓦/.in2 ≥功率密度下運行。該陰極設計用于在 3 英寸陰極上濺射高達 0.375 英寸厚的目標,在 2 英寸陰極上濺射高達 0.250 英寸厚的目標。高強度設計能夠濺射高達 0.125 英寸厚的 Fe 靶材和 3 英寸陰極,或 0.0625 英寸厚的 Fe 靶材和 2 英寸的 Mag-Keepers。如果沒有壓緊夾或暗空間屏蔽,這種陰極能夠運行≤低至 1mTorr。圓頂百葉窗設計消除了標準翻轉或擺動百葉窗所需的額外交叉污染屏蔽需求。





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