ULTRA 激光掩模光刻機

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產品標簽

高吞吐量半導體光掩模 ULTRA

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公司介紹 主營產品

深圳市矢量科學儀器有限公司是集半導體儀器裝備代理及技術服務的高新技術企業。

致力于提供半導體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導體分析測試設備、半導體光電測試儀表及相關儀器裝備維護、保養、售后技術支持及實驗室整體服務。

公司目前已授實用新型權利 29 項，軟件著作權 14 項，是創新型中小企業、科技型中小企業、規模以上工業企業。

展開

冷熱臺，快速退火爐，光刻機，納米壓印、磁控濺射，電子束蒸發

產品概述：

ULTRA半導體光掩模光刻機是門用于成熟半導體光掩模的合格激光掩模機。半導體光掩模用于制造電子設備，包括微控制器、電源管理、LED、物聯網（IoT）和 MEMS。

操作
用戶界面（軟件）	半兼容 GUI
大寫入區域	228 x 228 mm2 （可根據要求提供其他尺寸）
基板尺寸	4 英寸、5 英寸、6 英寸、7 英寸和 9 英寸口罩（可根據要求提供更大的和其他基材）

系統特點
光學	0.9 NA物鏡低失真紫外光學元件自動校準程序
激光	355nm波長的高功率二管泵浦固體激光器
對焦系統	實時光學自動對焦
對準	攝像系統失真補償全局和逐場對準邊緣檢測器
數據路徑	實時壓縮可擴展的硬件概念輸入格式：所有標準格式，例如 GDSII 和 Jobdeck
空間光調制器	頻率 350 kHz 數據速率 2.4 GB/s
自動化	全自動口罩處理，帶兩個大 9 英寸的輸送站;可選的 SECS/GEM 協議

系統尺寸	系統 / 電子機架
寬度 [mm]	2995 / 800
深度 [mm]	1652 / 650
高度 [mm]	2102 / 1800
重量 [kg]	3400 / 180

安裝要求
電氣	400 VAC ± 5%，50/60 Hz，16A，3 相
壓縮空氣	7 - 10 bar （不含油或其他殘留物）