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化工儀器網>產品展廳>行業專用儀器及設備>其它行業專用儀器>激光脈沖沉積(PLD)> 美國NBM 外延生長微型激光脈沖沉積系統PLD

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美國NBM 外延生長微型激光脈沖沉積系統PLD

具體成交價以合同協議為準

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昱臣半導體技術(香港)有限公司是專業的半導體及微電子領域儀器設備供應商,昱臣半導體技術(香港)有限公司所代理的儀器設備廣泛用于高校、研究所、半導體企業。

昱臣半導體技術(香港)有限公司目前代理的主要產品包括:

- 霍爾效應測試儀(Hall Effect Measurement System);

- 快速退火爐(RTP);

- 回流焊爐,真空燒結爐(Reflow Solder System);

- 探針臺(Probe Station),低溫探針臺(Cryogenic Probe Station);

- 貼片機(Die Bonder),劃片機(Scriber),球焊機/鍥焊機(Wire Bonder);

- 原子層沉積系統(ALD),等離子增強原子層沉積設備(PEALD);

- 磁控濺射鍍膜機(Sputter),電子束蒸發鍍膜機(E-beam Evaporator),熱蒸發鍍膜機(Thermal Evaporator),脈沖激光沉積系統(PLD) ;

- 低壓化學氣相沉積系統(LPCVD),等離子增強化學氣相沉積系統(PECVD),快速熱化學氣相沉積系統(RTCVD);

- 反應離子刻蝕機(RIE),ICP刻蝕機,等離子體刻蝕機;

- 致冷機/低溫恒溫器(Cryostat/Cryocooler);

- 加熱臺、熱板、烤膠臺 (Hot Chuck / Hot Plate);

- 掃描開爾文探針系統(Kelvin Probe),光反射膜厚儀(Reflectometer);

- 高溫超導磁體(HTS Magnet),快速場循環核磁共振弛豫測試儀(FFC Reflexometer);






原子層沉積系統,快速退火爐,PECVD,刻蝕機

產地類別 進口 價格區間 200萬-400萬
應用領域 電子,綜合

microPLD系統

專門為您的應用定制的多功能系統

NBM Design很高興提供microPLD系統。對于想要開始使用PLD技術的預算有限的用戶來說,微型PLD是啟動系統。它適合有限的實驗室空間,并且可以快速輕松地移動,使靈活的安裝成為現實。

在需要避免交叉污染問題的情況下,微型PLD系統也是擴展PLD實驗室的一種簡單方法。

1. 激光輻射與靶的相互作用

2. 熔化物質的動態

3. 熔化物質在基片的沉積

4. 薄膜在基片表面的成核(nucleation)與生成

在*階段,激光束聚焦在靶的表面。達到足夠的高能量通量與短脈沖寬度時,靶表面的一切元素會快速受熱,到達蒸發溫度。物質會從靶中分離出來,而蒸發出來的物質的成分與靶的化學計量相同。物質的瞬時溶化率大大取決於激光照射到靶上的流量。熔化機制涉及許多復雜的物理現象,例如碰撞、熱,與電子的激發、層離,以及流體力學。

在第二階段,根據氣體動力學定律,發射出來的物質有移向基片的傾向,并出現向前散射峰化現象。空間厚度隨函數cosnθ而變化,而n>>1。激光光斑的面積與等離子的溫度,對沉積膜是否均勻有重要的影響。靶與基片的距離是另一個因素,支配熔化物質的角度范圍。亦發現,將一塊障板放近基片會縮小角度范圍。

第三階段是決定薄膜質量的關鍵。放射出的高能核素碰擊基片表面,可能對基片造成各種破壞。下圖表明了相互作用的機制。高能核素濺射表面的部分原子,而在入射流與受濺射原子之間,建立了一個碰撞區。膜在這個熱能區(碰撞區)形成后立即生成,這個區域正好成為凝結粒子的z佳場所。只要凝結率比受濺射粒子的釋放率高,熱平衡狀況便能夠快速達到,由於熔化粒子流減弱,膜便能在基片表面生成。

全自動PLD脈沖激光沉積系統概述:該系統為PC計算機全自動控制的立柜式系統,具有占地面積小、性價比高的優點。占地面積尺寸為26"x42"x44"。不銹鋼立柜,帶Auto Load/Unload自動上下載片功能,帶預真空鎖。

主要優點:

1. 易獲得期望化學計量比的多組分薄膜,即具有良好的保成分性;

2. 沉積速率高,試驗周期短,襯底溫度要求低,制備的薄膜均勻;

3. 工藝參數任意調節,對靶材的種類沒有限制;

4. 發展潛力巨大,具有極大的兼容性;




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