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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>薄膜生長設備>物理氣相沉積設備>MS450 磁控濺射鍍膜設備

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MS450 磁控濺射鍍膜設備

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       江蘇雷博科學儀器有限公司2013年9月成立于江蘇江陰,是一家初期以高檔專業的實驗室儀器開發為目標的海歸創業企業。2020年8月,江蘇雷博科儀通過資源整合,將雷博科儀中發展起來的的工業半導體設備業務分拆出來成立了江蘇雷博微電子設備有限公司。兩家公司使用同一品牌 ,獨立經營不同系列產品。公司主營高檔實驗室儀器及半導體設備開發業務。公司技術力量雄厚,人才濟濟,憑借雄厚的技術實力不斷進行新產品開發和創新實現,在納米薄膜制備類儀器領域取得了顯著的市場地位。公司生產的高精度高可靠性勻膠機榮獲江蘇省高新技術產品,是國內勻膠機全系列、多功能、定制化服務的供應商。
       公司生產和銷售不同領域的高檔科研儀器和工業半導體設備:Schwan technology®是我們的納米薄膜制備類設備品牌,主要有勻膠機、顯影機、烤膠機、提拉機、噴膠機、涂膜機、狹縫涂布機等相關產品;LEBO science®是我們的工業半導體設備品牌,主要有勻膠機、顯影機、蝕刻機、去膠機、清洗機等獨立柜式機臺及工業全自動機臺。
       公司產品被廣泛應用于納米薄膜制備需求的鈣鈦礦薄膜太陽能、有機光電、MEMS、聲表、光通訊、化合物半導體及先進封裝等領域,具有核心技術可靠、高性價比、定制化服務的競爭優勢。 

       公司目前團隊人數80多人,業績和規模處于快速擴展期,2013年起年銷售額一直保持快速增長,目前正準備二輪融資擴產。公司生產廠房設有裝配潔凈車間及黃光試驗區,其中生產區域約1500平方米,辦公及倉儲區域約1000平方米。

勻膠機,烤膠機,涂膜機,狹縫涂布機,紫外清洗機,電解雙噴儀

  磁控濺射鍍膜設備是一種先進的物理氣相沉積(PVD)技術,其核心在于利用濺射效應將靶材原子轉移到基材表面,從而形成薄膜。濺射效應是指當高能離子撞擊固體表面時,靶材表面原子被擊出并散射的現象。
 
  在磁控濺射過程中,首先在真空腔體中引入惰性氣體(通常是氬氣)。當高壓電場作用于氣體時,氬氣被電離形成等離子體,這種等離子體由帶正電的離子和自由電子組成。等離子體中的高能氬離子在電場的加速下撞擊靶材表面,導致靶材原子被濺射出來。這些濺射出的原子隨后沉積在基材上,逐層形成所需的薄膜。
 
  1.MS450是一臺高真空磁控濺射鍍膜設備
 
  2.設備主要由真空室、濺射靶槍、濺射電源、加熱樣品臺、流量控制系統、真空獲得系統、真空測量系統、氣路系統、PLC+觸摸屏自動控制系統等組成。
 
  3.該設備主機與控制一體化設計,操控方便;結構緊湊,占地面積小。
 
  4.主要用途:
 
  1. 開發納米級單層、多層及復合膜層等。
 
  2. 制備金屬膜、合金膜、半導體膜、陶瓷膜及介質膜等,例:銀、鋁、 銅、鎳、鉻、鎳鉻合金、氧化鈦、氮化鈦、氮化鉻、ITO......
 
  3. 兩靶單獨濺射、依次濺射、共同濺射。
 
  5.應用領域:
 
  1. 高校、科研院所的教學、科研實驗及生產型企業前期探索性實驗及開發新產品等。
 
  2. 鈣鈦礦太陽能電池、OLED、OPV 太陽能電池等行業。
 


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