NONSEQUITUR 離子源離子槍 ION GUNS: MODEL 1401 5EV – 5KEV 氣相離子源

Nonsequitur公司的Model 1401離子源離子槍非常適合用于表面化學實驗，例如使用Auger 和ESCA進行樣品制備和深度分析，可以用于惰性氣體。

在工作距離為25毫米，束流大小為20安時,光斑為直徑0.4毫米.相比較于其他的離子槍而言,離子槍型號1401能提供的電流密度是其他離子槍的1-倍。當束流為1 A時,光斑最小可以選擇到50米電子束能量可以在范圍5eV到5keV中選擇,并同時保持樣品的最佳聚焦。束流大小可以調節,并不受電子束能量的影響,無需外部設備,可以直接從前面板進行調節。

通過電子沖擊來生成離子,雙燈絲設計可以延長使用壽命,而無需中斷設備的使用。離子源的真空燈絲處于離軸狀態,以防止燈絲材料沉積到樣品上。
離子源可以直接或通過單獨的渦輪泵差動泵入系統，以提高系統真空。

帶有電源和掃描電子設備的控制器安裝在一個5-1/4英寸高的19英寸機架安裝柜中。離子槍可以從前面板上控制，也可以通過一個靈活的界面來控制，該界面允許控制射束和聚焦電壓、電離電流、氣體、射束開/關以及光柵。光柵掃描是數字生成的，用于均勻的蝕刻速率。

NONSEQUITUR 離子源離子槍設計特點:

• 高電流密度15至50 mA/cm2，取決于所選的斑點尺寸。
• 穩定發射的離子源設計。
• 典型燈絲壽命大于500小時的雙鎢絲。氧化釔涂層銥可選。
• 可更換的光束微調孔，典型壽命> 500小時。
• 制造中使用的所有UHV兼容和抗蝕刻材料。
• 差動泵送使主室氣體負荷最小化。
• 噴槍易于拆卸，便于維護。
• 電氣連接和氣體入口位于一個法蘭上，便于安裝。
• 預設提取和聚光透鏡參數(三個光斑尺寸設置)，可重復操作。
• 整體束流測量。
• 離子源壓力的直接測量。
• 系統和電纜聯鎖裝置可防止在真空不良或電纜拆除的情況下激發高壓。
• 單個5-1/4高19英寸機架安裝外殼中的電源和光柵發生器。
• 用于均勻蝕刻輪廓的數字生成光柵選項。
• 計算機控制選項。
• 可選離子源壓力調節。