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KT-Z1650PVD 金靶材鍍膜磁控濺射

具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

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鄭州科探儀器設(shè)備有限公司是集開發(fā)、制造、經(jīng)營為一體的材料創(chuàng)新型企業(yè),如今公司的產(chǎn)品已經(jīng)遍布國內(nèi)大多數(shù)實驗室 及*校,科探儀器已經(jīng)成為老師 同學(xué)歡迎和信任的品牌之一

公司以科技創(chuàng)新為主,服務(wù)社會為宗旨,積極設(shè)計開發(fā)新型材料制備設(shè)備,奉獻(xiàn)于教育和科學(xué),經(jīng)過長期的研發(fā)和不斷地技術(shù)積累,擁有熱工,制造,控制相關(guān)技術(shù)10余項,為化學(xué),物理,材料,電子,高分子工程,新材料制備和研發(fā)領(lǐng)域的科學(xué)研究提供了精良設(shè)備。公司通過和院校老師 同學(xué)強強聯(lián)合,形成了有效的信息,技術(shù)交流平臺,為科探儀器了解市場需求提供了強有力的支持!。

目前公司已研發(fā)生產(chǎn)產(chǎn)品十多個系列幾十款產(chǎn)品,產(chǎn)品囊括實驗電爐、CVD供氣系統(tǒng)、等離子清洗機、小型離子濺射儀、小型蒸鍍儀等,主要適用于科研院校及工礦企業(yè)在新材料、新能源等領(lǐng)域物理特性及化學(xué)特性的研究,廣銷于各大院校,及材料研究所。

公司與國內(nèi)高校,科研院所有多層次的合作關(guān)系,建有開放實驗室,相關(guān)領(lǐng)域的教授、高級工程師、博士參與公司產(chǎn)品的研究和開發(fā)。我們秉承公司的發(fā)展理念,依靠嚴(yán)謹(jǐn)?shù)募夹g(shù)研發(fā)能力,科學(xué)合理的生產(chǎn)工藝,精益求精的制造要求,全心全意做好產(chǎn)品質(zhì)量和服務(wù)工作,科探儀器時刻懷著一顆真誠的心期待與您的合作。

 

 

 

 

 

 

 

實驗室設(shè)備 真空設(shè)備 儀器儀表 電子元器件 五金交電實驗室設(shè)備安裝

靶材材質(zhì) 金 鉑 銅 銀 等 靶材尺寸 50mm
產(chǎn)地類別 國產(chǎn) 價格區(qū)間 面議
濺射氣體 根據(jù)需求通氣 控制方式 觸摸屏智能控制
樣品倉尺寸 φ160x160mm 樣品臺尺寸 50mm
應(yīng)用領(lǐng)域 綜合

金靶材鍍膜磁控濺射,7寸人機界面,自動手動模式切換控制,最大功率1000w直流磁控濺射

單靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該單靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比,其不僅應(yīng)用廣泛,且具有體積小便于操作的優(yōu)點,是一款實驗室制備材料薄膜的理想設(shè)備,特別適用于實驗室研究固態(tài)電解質(zhì)及OLED等

單靶直流磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性價比磁控濺射鍍膜設(shè)備,具有標(biāo)準(zhǔn)化、模塊化、可定制化的特點。

所配電源為1000W大功率直流電源,可用于高能量的金屬濺射鍍膜,根據(jù)實驗需求也可以選配其他規(guī)格的直流或者射頻電源來實現(xiàn)各種材料的鍍膜操作。

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金靶材鍍膜磁控濺射技術(shù)參數(shù);

控制方式

7寸人機界面 手動 自動模式切換控制

濺射電源

直流濺射電源

鍍膜功能

0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序

功率

≤1000W

輸出電壓電流

電壓≤1000V  電流≤1A

真空

機械泵 ≤5Pa(5分鐘)   分子泵≤5*10^-3Pa

濺射真空

≤30Pa

擋板類型

電控

真空腔室

不銹鋼腔體φ160mm x 170mm

樣品臺

可旋轉(zhuǎn)φ62  (可安裝φ50基底)

樣品臺轉(zhuǎn)速

8轉(zhuǎn)/分鐘

樣品濺射源調(diào)節(jié)距離

40-105mm

真空測量

皮拉尼真空計(已安裝 測量范圍10E5Pa  1E-1Pa)

預(yù)留真空接口

KF25抽氣口    KF16放氣口   6mm卡套進(jìn)氣口







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