PICOSUN™ P-300系統已經成為高產能ALD制造業的新標準。擁有的熱壁、*獨立的前驅體管路和特殊的載氣設計， 確保我們可以生產出具有優異的成品率、低顆粒水平和的電學和光學性能的高質量ALD薄膜。高效緊湊的設計使得維護更加方便、快捷， 最大限度的減少了系統的維護停工期和使用成本。擁有專技術的Picoflow™使得在超高深寬比結構上沉積保形性薄膜更高效， 并已在生產線上得到驗證。
 

PICOSUN™ P-300F系統代表了工業化ALD工藝。這個系統是為全自動的批量生產而設計， 并與工業標準化的單片晶圓真空集群平臺相結合。 P-300F系統通過SEMI S2/S8認證，可以通過SECS/GEM整合到自動化生產線上。
 

The PICOSUN™ P-300F是IC行業創新驅動行業的選ALD系統！
 

襯底尺寸和類型

•    200 mm 晶圓 50片/批次

•     150 mm 晶圓 50片/批次

•    100 mm 晶圓 50片/批次

•    高深寬比基底（最大深寬比1:2500）

•    基底材料： Si,玻璃，石英， SiC,GaN, GaAs, LiNbO3, LiTaO3, InP

工藝溫度和產率

•    50 – 300°C

•    最高達到1000片/24h@15nm Al2O3薄膜

•    批量生產的平均工藝時間小于10秒/循環*

•    Al2O3, SiO2, Ta2O5, HfO2, ZnO, TiO2, ZrO2,AlN, TiN以及各種金屬

•     同一批次薄膜不均勻性<1% 1σ

(Al2O3, WIW, WTW, B2B, 49pts, 5mm EE)**

基片裝載

•    全自動裝載， 帶垂直翻轉功能的真空集群設備

•    通過Picoplatform™ 200 真空集群系統進行盒 對盒批量裝載

•    可選SMIF配置

前驅體

•    液態、固態、氣態、臭氧源

•    源瓶余量傳感器， 提供清洗和裝源服務

•    6根獨立源管線， 最多加載12個前驅體源