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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>薄膜生長設備>原子層沉積設備>P 系列 粉末原子層沉積系統

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P 系列 粉末原子層沉積系統

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復納科學儀器(上海)有限公司(簡稱“復納科技”)于 2012 年在上海成立,聚焦荷蘭飛納臺式掃描電鏡在中國市場的推廣和應用,涵蓋領域包括材料、鋰電新能源、半導體、生命科學和法醫檢測等。

截止目前,復納科技服務超過 2000 家飛納電鏡客戶和 100 家相關產品客戶,包括:清華大學、北京大學、復旦大學、上海交通大學、華南理工大學和中科院系統等高校科研單位;巴斯夫、寧德時代、微軟、默克和出入境檢驗局等企事業單位。

2017 年開始,復納科技陸續與 7 家行業品牌建立了長期合作,致力于為中國高校、研究所、企業和政府用戶提供先進可靠、高效智能的科學分析儀器、優質專業的服務和基于核心技術的解決方案。目前已引進先進的:DENSsolutions TEM原位樣品桿,飛納臺式掃描電鏡,NEOSCAN臺式高分辨顯微 CT,ForgeNano原子層沉積、 Technoorg Linda SEM/TEM樣品制備和VSParticle 納米氣溶膠沉積等設備。

十年以來,復納科技賦能中國科研創新、工業升級,人工智能檢測的使命也越來越清晰。

 

 

 

 

臺式掃描電鏡,SEM / TEM 樣品制備,ALD 原子層沉積,TEM 原位樣品桿,X 射線顯微 CT

價格區間 面議 應用領域 化工,能源,電子,制藥

P 系列粉末原子層沉積系統

forge-p系列.jpeg

粉末包覆可有效提升材料性能與使用壽命,如鋰電正極或負極材料,經過表面包覆處理后在放電性能及循環使用壽命方面都有明顯提升,但目前工業的包覆手段以機械混合的干法為主,該方法包覆均勻性較差,性能提升有限。ALD 技術可實現高精度及均勻包覆,是理想的包覆手段。Forge Nano 針對粉末類材料比表面積大的特點,采用流化床技術實現粉末材料的流化,從而保證前驅體與粉末實現充分的接觸。P 系列粉末原子層沉積系統是 Forge Nano 針對工業包覆研發的粉末 ALD 負載系統,可實現 kg 級粉末批量包覆,是工業生產前理想的研發工具。


產品規格原子層沉積多少錢


1. 前驅體通道:2-8

2. 腔室容量:0-600ml

3. 反應器溫度:450℃

4. 最高工藝溫度:200℃

5. 振動流化床反應器

6. 模塊:流化輔助,質譜,臭氧發生器,等離子體發生器


產品特點


P 系列是 Forge Nano 專為粉末 ALD 開發的研發級工具,可輕松實現 kg 的粉末包覆。使用流化床技術可保證粉末在反應器中的分散,有利于前驅體擴散。

圖片5.png

流化輔助

粉末在長時間存放或流化不充分時容易出現團聚,導致無法形成理想的流化態。因此利用流化輔助模塊,高剪切氣流以及振動反應器的設計可沖散團聚顆粒,確保分散效果。


分區加熱

所有前驅體源均可獨立加熱,保證運輸條件,這對于部分低蒸汽壓的前驅體以及敏感的基底材料非常重要。P 系列也擁有*的閥門控制系統,可以實現多通道前驅體輸運。


在線監測

P 系列配置了氣體在線分析系統,對 ALD 工藝的改善有較大幫助,使用者可通過氣體成分判斷反應的完成度。


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應用

鋰電池:鋰電正極或負極材料的包覆可有效提升其放電性能及使用壽命。常見的 NCM 與磷酸鐵鋰,在表面包覆 Al2O3 等氧化物薄膜后,在經過多次放電后,仍可保持較高的能量密度。



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3D 打印:3D 打印粉末存在腐蝕及表面氧化的問題,會影響最終器件的性能。通過表面涂層改性,可有效延緩氧化及腐蝕。傳統的包覆方式是在器件表面進行 ALD 沉積,但對于 3D 打印粉末,直接對原材料粉末改性無疑是更有效的手段。


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催化:催化反應大多數是發生在材料表面的界面反應,因此對于催化劑材料進行表面構筑改性是有效的性能提升手段。利用 ALD 可以直接在粉末,纖維材料表面生長高活性納米涂層,另一種方法是利用模板法結合 ALD 在表面構筑特定結構,暴露活性位點。此外,也可以在特定的顆粒表面進行表面包覆,防止催化劑燒結團聚。


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