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CVD,MOCVD專用氫氣發(fā)生器|普拉勒(南京)儀器科技有限公司[英國普拉勒]

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COMPANY PROFILE
PECULIAR (UK) INSTRUMENT TECHNOLOGY LIMITED 是實驗室前處理設備(氣體發(fā)生器、降
噪設備、純水設備)的主要供應商,歐洲(英國、德國)和亞洲(北京)地區(qū)三大生產基地,超過十幾年的實驗室前處理產品研發(fā)和制造歷史,不斷追求技術革新,其產品廣泛應用于制藥、食品、環(huán)保、生物、石化、煙草、出入境檢驗檢疫、疾病控制、科研院所等分析實驗室。為現(xiàn)代化的分析實驗室提供理想的前處理系統(tǒng)解決方案。

氣體發(fā)生器系列

產地類別 進口 價格區(qū)間 面議
應用領域 醫(yī)療衛(wèi)生,綜合

CVD(Chemical Vapor Deposition)和MOCVD(Metal-Organic Chemical Vapor Deposition)是兩種常用的化學氣相沉積技術,用于制備薄膜、涂層和納米材料等。

CVD是一種通過在反應室內將反應物質以氣體形式傳輸并在襯底表面發(fā)生化學反應,從而在襯底上形成所需材料的方法。該過程涉及到化學反應、氣體輸運和表面擴散等多個步驟。在CVD過程中,通過控制反應氣體的組成、流速、溫度和壓力等參數(shù),可以實現(xiàn)對所生長材料的成分、結構和性能的精確控制。

而MOCVD是一種特殊的CVD技術,主要用于生長復雜化合物薄膜,如半導體材料、光電材料等。MOCVD利用金屬有機前驅物(通常是金屬有機化合物)和載氣(如氫氣、氮氣)在高溫條件下反應,使金屬有機前驅物分解并釋放金屬原子,然后這些金屬原子與載氣中的其他氣體反應,最終在襯底表面形成所需薄膜。


 

CVD,MOCVD專用氫氣發(fā)生器由超純水機制取二級水,并儲存至水箱備用。氫氣發(fā)生器缺水時,自動供給至氫氣發(fā)生器。多臺氫氣發(fā)生器可串聯(lián)使用,通過串聯(lián)控制線由一臺發(fā)生器控制其他發(fā)生器,實現(xiàn)產氣均勻分配。(以兩臺設備為例控制圖如下)

CVD,MOCVD專用氫氣發(fā)生器


 

 

 

 



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