CVD,MOCVD專用氫氣發(fā)生器|普拉勒(南京)儀器科技有限公司[英國普拉勒]
- 公司名稱 英國普拉勒科技有限公司-普拉勒(南京)儀器科技有限公司
- 品牌 PECULIAR/普拉勒
- 型號
- 產地
- 廠商性質 生產廠家
- 更新時間 2024/12/25 10:32:54
- 訪問次數(shù) 6919
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產地類別 | 進口 | 價格區(qū)間 | 面議 |
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應用領域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,綜合 |
CVD(Chemical Vapor Deposition)和MOCVD(Metal-Organic Chemical Vapor Deposition)是兩種常用的化學氣相沉積技術,用于制備薄膜、涂層和納米材料等。
CVD是一種通過在反應室內將反應物質以氣體形式傳輸并在襯底表面發(fā)生化學反應,從而在襯底上形成所需材料的方法。該過程涉及到化學反應、氣體輸運和表面擴散等多個步驟。在CVD過程中,通過控制反應氣體的組成、流速、溫度和壓力等參數(shù),可以實現(xiàn)對所生長材料的成分、結構和性能的精確控制。
而MOCVD是一種特殊的CVD技術,主要用于生長復雜化合物薄膜,如半導體材料、光電材料等。MOCVD利用金屬有機前驅物(通常是金屬有機化合物)和載氣(如氫氣、氮氣)在高溫條件下反應,使金屬有機前驅物分解并釋放金屬原子,然后這些金屬原子與載氣中的其他氣體反應,最終在襯底表面形成所需薄膜。
CVD,MOCVD專用氫氣發(fā)生器由超純水機制取二級水,并儲存至水箱備用。氫氣發(fā)生器缺水時,自動供給至氫氣發(fā)生器。多臺氫氣發(fā)生器可串聯(lián)使用,通過串聯(lián)控制線由一臺發(fā)生器控制其他發(fā)生器,實現(xiàn)產氣均勻分配。(以兩臺設備為例控制圖如下)