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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>光刻及涂膠顯影設備>納米壓印設備>CNI v3.0-200 臺式納米壓印機

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CNI v3.0-200 臺式納米壓印機

具體成交價以合同協議為準
  • 公司名稱 邁可諾技術有限公司
  • 品牌 其他品牌
  • 型號 CNI v3.0-200
  • 產地
  • 廠商性質 代理商
  • 更新時間 2025/3/12 10:13:53
  • 訪問次數 2604

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半導體化工領域專業實驗設備供應商:邁可諾是一家富有創新精神的高科技公司,專業提供光電半導體化工實驗室所需設備耗材的全套解決方案提供商,邁可諾從事開發、設計、生產并營銷質量可靠的、安全易用的技術產品及優質專業的服務,幫助我們的客戶和合作伙伴取得成功。我們成功的基礎是幫助客戶做出更好的選擇和決定,尊重他們的決定,并協助他們實現高效率的科研成果,追求豐富有意義的生活。




勻膠機,光刻機,顯影機,等離子清洗機,紫外臭氧清洗機,紫外固化箱,壓片機,等離子去膠機,刻蝕機,加熱板

一、納米壓印機的工作原理

納米壓印技術通過物理壓印的方式,將模板(模板表面具有納米級圖案)的微結構轉移到目標材料表面,主要分為以下兩種主流工藝:

 

1. 熱壓?。═hermal NIL)

步驟:

加熱軟化:將聚合物材料(如PMMA、SU-8等)加熱至玻璃化轉變溫度以上,使其軟化。

壓印成型:用硬質模板(如硅、石英)在高壓下壓入軟化的聚合物,形成納米結構。

冷卻脫模:降溫固化聚合物后,分離模板,保留納米圖案。

特點:工藝簡單、成本低,但高溫可能限制對熱敏感材料的應用。

 

2. 紫外光固化壓?。║V-NIL)

步驟:

涂覆光刻膠:在基材表面旋涂紫外光固化膠(低粘度樹脂)。

壓印曝光:用透明模板(如石英)壓合膠層,同時紫外光照射固化膠體。

脫模與刻蝕:分離模板后,通過刻蝕去除殘留膠層,得到納米結構。

特點:室溫操作、分辨率高(可達<50nm),適合精密器件制造。

 

納米壓印優勢:

超高分辨率:超越傳統光刻的物理衍射極限。

低成本:無需復雜光學系統,適合大面積圖案化。

材料兼容廣:可加工金屬、聚合物、玻璃等多種基材。

 

 

二、納米壓印機技術特點

    CNI v3.0系列納米壓印機是一款專為實驗室開發的即插即用,兼具熱壓印和紫外壓印兩種功能,而且可以快速的實現真空環境下的壓印。UV蓋和連接器的壓印腔室,控制模塊,用于自動控制壓印過程(壓力,溫度,UV曝光等),壓印室可實現真空兼容,低至1mbar。

★1.1承載基片:≤210mm的各種基片,高度20mm;

1.2壓印真空度:1mbar;

1.3加熱溫度:最高溫度250℃;

1.4最大壓力:≥5bar;

1.5 UV波長:4個組合的LED光源,波長365nm,組合光的功率可達到11.6W,LED光源的溫度被實時檢測,擁有過熱保護功能;

1.6 UV最大功率:≥11,600mW

1.7 印章載體:1個可更換的直徑為210 mm的加熱元件,還可以用作壓印腔中的印模承載平臺,能夠在高達250℃的溫度下進行熱壓印;

1.8 壓印軟件:運行CNI 軟件,該軟件控制壓印過程中的所有內容(壓力,溫度,紫外線照射,時間等)

 

三、納米壓印機的應用

納米壓印技術憑借其高分辨率和低成本特性,廣泛應用于以下領域:

 

1.半導體與集成電路

制造高密度存儲芯片(如NAND閃存、MRAM)。

光子集成電路(如硅光器件、光柵耦合器)。

優勢:替代傳統EUV光刻,降低優良制程成本。

 

2.光學器件與顯示技術

增強現實(AR)衍射光波導。

液晶顯示(LCD)導光板微結構。

超表面透鏡(Metalens)的納米天線陣列。

優勢:實現復雜光學結構的低成本批量生產。

 

3.生物醫學與傳感器

微流控芯片(Lab-on-a-Chip)的納米通道。

表面增強拉曼散射(SERS)基底。

生物分子檢測的納米孔陣列。

優勢:高精度結構提升檢測靈敏度與特異性。

 

4.新能源與柔性電子

鈣鈦礦太陽能電池的納米陷光結構。

柔性電子(如可穿戴傳感器)的導電圖案。

透明導電膜(如銀納米線網格)。

優勢:兼容柔性基材(PET、PI),支持卷對卷(R2R)工藝。

 

5.防偽與裝飾

包裝的全息防偽標簽。

奢侈品表面的納米紋理裝飾(如抗指紋、啞光效果)。

優勢:微結構可定制化,難以復制。




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